[发明专利]测量装置和观测条件的设定方法

权利要求书

1.一种周期性地照射二维扫描的带电粒子束来观察试样的测量装置，其特征在于，包括：

输出所述带电粒子束的粒子源；

使所述带电粒子束聚焦的透镜；

对从照射了所述带电粒子束的所述试样发射的发射电子的信号进行检测的检测器；和

基于观测条件对所述带电粒子束的输出和所述发射电子的信号的检测进行控制的控制装置，

所述控制装置设定用于控制所述带电粒子束的二维扫描的第1参数作为所述观测条件，

所述控制装置设定用于控制所述带电粒子束的照射周期的第2参数作为所述观测条件，其中所述照射周期用于指定扫描中的所述带电粒子束的照射位置，

所述控制装置设定用于控制脉冲状的带电粒子束的脉冲宽度的第3参数作为所述观测条件，

所述控制装置设定用于在所述脉冲状的带电粒子束的照射时间内控制所述发射电子的信号的检测时刻的第4参数作为所述观测条件，

所述第4参数是基于从所述带电粒子束的照射位置发射的多个发射电子的信号各自的强度之差而决定的。

2.如权利要求1所述的测量装置，其特征在于：

所述控制装置基于所述第1参数、所述第2参数和所述第3参数，使所述粒子源向所述试样照射规定脉冲宽度的脉冲状的带电粒子束，其中，所述粒子源使所述脉冲状的带电粒子束一边在任意方向上扫描一边周期性地照射，

记录表示所述多个发射电子的信号的强度的时间变化的数据，

基于所述照射时间内的所述多个发射电子的信号各自的强度之差决定所述第4参数。

3.如权利要求1所述的测量装置，其特征在于：

所述控制装置设定表示所述试样的特性的第5参数，

使用所述第1参数、所述第2参数、所述第3参数和所述第5参数，对向所述试样照射了所述脉冲状的带电粒子束时发射的所述多个发射电子的信号进行模拟，其中，所述脉冲状的带电粒子束是一边在任意方向上扫描一边周期性地照射的，

记录表示作为所述模拟的结果的所述多个发射电子的信号的强度的时间变化的数据，

基于所述照射时间内的所述多个发射电子的信号各自的强度之差决定所述第4参数。

4.如权利要求2或3所述的测量装置，其特征在于：

设定用于决定所述检测时刻的多个候选参数，

参照所记录的所述数据，获取在与所述多个候选参数的各个候选参数对应的检测时刻检测到的所述发射电子的信号，

使用所获取的所述发射电子的信号来生成图像，

基于与所述多个候选参数的各个候选参数对应的图像，从所述多个候选参数中决定作为所述第4参数要设定的所述候选参数。

5.如权利要求2或3所述的测量装置，其特征在于：

所述控制装置基于所记录的所述数据，确定所述多个发射电子的信号各自的强度之差为最大的时间，

基于所述时间设定所述第4参数。

6.如权利要求2或3所述的测量装置，其特征在于：

所述测量装置具有控制机构，该控制机构对因所述试样的带电而产生的电场进行控制，

所述控制装置设定用于控制所述控制机构的第6参数。

7.如权利要求4所述的测量装置，其特征在于：

所述控制装置显示用于设定所述观测条件中包含的参数的设定画面，

在所述设定画面中显示所述图像。