[发明专利]电磁场分布调整装置以及微波加热装置有效

专利信息
申请号: 201780082422.X 申请日: 2017-12-25
公开(公告)号: CN110169200B 公开(公告)日: 2021-10-19
发明(设计)人: 贞平匡史;吉野浩二;久保昌之;桥本修;须贺良介 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: H05B6/74 分类号: H05B6/74;H05B6/64
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 邓毅;黄纶伟
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 电磁场 分布 调整 装置 以及 微波 加热
【权利要求书】:

1.一种电磁场分布调整装置,其具有:

多个金属片,它们以填充规定的二维区域的方式进行排列;

多个开关,它们连接所述多个金属片;

串联连接金属片列,其包含如下部分:该部分是利用所述多个开关中的至少两个开关将所述多个金属片中的一个金属片与和所述一个金属片相邻的金属片中的最多两个金属片连接而构成的;

接地导体,其沿着所述二维区域设置;

多个短接导体,它们将所述多个金属片与所述接地导体连接;以及

电位确定部,其构成为确定所述串联连接金属片列的电位,

所述电位确定部具有与所述串联连接金属片列连接的第一选择开关和第二选择开关,

所述第一选择开关被设置为,选择如下的连接方式中的任意一种,即:将设置在所述串联连接金属片列的一端的金属片与直流电压源连接、将设置在所述串联连接金属片列的一端的金属片接地、或者使设置在所述串联连接金属片列的一端的金属片不与任何一方连接,

所述第二选择开关被设置为,选择是否将设置在所述串联连接金属片列的另一端的金属片接地。

2.根据权利要求1所述的电磁场分布调整装置,其中,

所述多个金属片各自的一边具有小于微波的波长一半的长度。

3.根据权利要求1所述的电磁场分布调整装置,其中,

当断开所述多个开关时,所述电磁场分布调整装置在所述多个金属片的附近具有实质上为无限大的阻抗,

当闭合所述多个开关时,所述电磁场分布调整装置在所述多个金属片的附近具有实质上为零的阻抗。

4.根据权利要求1所述的电磁场分布调整装置,其中,

所述串联连接金属片列配置在所述二维区域的一部分。

5.一种微波加热装置,其具有:

加热室,其收纳被加热物;

微波产生器,其构成为生成微波;

波导管,其构成为将所述微波引导至所述加热室;以及

权利要求1至4中的任意一项所述的电磁场分布调整装置。

6.根据权利要求5所述的微波加热装置,其中,

所述电磁场分布调整装置设置于所述加热室内的至少一个壁面。

7.根据权利要求6所述的微波加热装置,其中,

所述电磁场分布调整装置设置于所述至少一个壁面的一部分。

8.根据权利要求5所述的微波加热装置,其中,

所述电磁场分布调整装置可装卸地设置于所述加热室内的任意壁面。

9.根据权利要求5所述的微波加热装置,其中,

所述电磁场分布调整装置设置于所述波导管的开口的附近。

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