[发明专利]阴图制版平版印刷版前体和用途有效
| 申请号: | 201780082310.4 | 申请日: | 2017-12-21 |
| 公开(公告)号: | CN110121680B | 公开(公告)日: | 2022-10-04 |
| 发明(设计)人: | P.维曼;C.D.辛普森;S.维尔纳 | 申请(专利权)人: | 伊斯曼柯达公司 |
| 主分类号: | G03F7/029 | 分类号: | G03F7/029;B41C1/10;G03F7/032;G03F7/033;G03F7/105 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 段菊兰;杨戬 |
| 地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 制版 平版印刷 版前体 用途 | ||
一种平版印刷版前体具有红外辐射敏感的可成像层,所述红外辐射敏感的可成像层包括一种或更多种可自由基聚合的组分、在所述红外辐射敏感的可成像层暴露于红外辐射时提供自由基的引发剂组合物、一种或更多种红外辐射吸收剂、和可选地,不同于所述一种或更多种可自由基聚合的组分的聚合物粘合剂。所述引发剂组合物包含由下式(I)表示的碘鎓四芳基硼酸盐:其中Ar独立地为未取代的苯基或萘基,或者各自具有一个或更多个供电子取代基的取代的苯基或萘基;并且R是包含0至3个氧原子和2至5个碳原子的直链或支链有机基团,条件是R以所述碳原子中的一个直接附接至氧原子。
发明领域
本发明涉及一种阴图制版平版印刷版前体,其可使用红外辐射成像并冲洗(processed)以提供具有改进的印刷输出特性的平版印刷版。本发明还涉及一种由这类前体制备平版印刷版的方法。
发明背景
在平版印刷中,在平面衬底的亲水表面上产生被称为图像区的平印油墨接收区域。当用水润湿印刷版表面并涂覆平版印刷油墨时,亲水区域保留水并排斥平版印刷油墨,并且接收平印油墨的图像区域接受平版印刷油墨并排斥水。将平版印刷油墨转印至材料的表面,在该表面上可能使用橡皮布辊复制图像。
可用于制备平版印刷版的阴图制版平版印刷版前体通常包括设置在衬底的亲水表面上的阴图制版辐射敏感的可成像层。这种可成像层包括可分散于合适的基体材料中的辐射敏感的组分。在前体被成像式暴露于合适的辐射以形成已曝光区域和未曝光区域之后,由合适的显影剂去除可成像层的未曝光区域,从而显露下方的衬底的亲水表面。未被去除的可成像层的已曝光区域是接收平印油墨的,并且由显影工艺显露的亲水衬底表面接受水和诸如润版液的水溶液,并排斥平版印刷油墨。
在阴图制版平版印刷版前体中使用的辐射敏感的可光致聚合组合物通常包含可自由基聚合的组分,一种或更多种辐射吸收剂,引发剂组合物,和可选的一种或更多种聚合物粘合剂。
近年来,工业中强调简化平版印刷版制造工艺,包括省略预显影加热步骤(预热)和使用平版印刷油墨、润版液或两者进行在机(on-press)显影(DOP)以去除平版印刷版前体上不需要的涂层材料。由于印刷机污染的潜在风险,针对DOP设计的印刷版前体通常不具有氧阻隔(防护)层,或者这样的层以低覆盖率存在。针对DOP设计的平版印刷版前体通常需要特殊的IR光引发剂,诸如比常规二芳基碘鎓盐甚至更有效的具有四苯基硼酸根阴离子的二芳基碘鎓盐,以及在红外辐射敏感的组合物和可成像层中的高引发剂浓度。
例如,美国专利7,524,614 (Tao等人)描述了针对DOP设计的平版印刷版前体,所述前体含有合适量的二芳基碘鎓硼酸盐,包括具有四芳基硼酸根阴离子的那些。在美国专利申请公布2011/0003123 (Simpson等人)中也描述了类似的辐射敏感的组合物和平版印刷版前体。
通常对已成像的平版印刷版前体进行视觉检查以确保获得了所需图像。对于针对在合适的显影剂中进行脱机(off-press)冲洗而设计的前体,这种检查可在将平版印刷版安装于印刷机上之前容易地发生。通常将着色剂添加至可成像层组合物以促进这种检查。
对于针对DOP设计的已成像前体,图像并不那样容易识别。向在机可显影可成像层组合物添加着色剂可能损害贮存期、在机可显影性或成像敏感性,并且着色剂可能污染平版印刷油墨。业界已以各种方式处理该问题。例如,美国专利申请公布2009/0047599(Horne等人)描述了使用螺旋内酯或螺旋内酰胺着色剂前体以提供因在成像过程中形成的酸而通常被称为“印刷输出”(PO)的视觉图像。
然而,当以所需高浓度使用具有硼酸根阴离子的碘鎓盐时,碘鎓盐的选择可对平版印刷版前体的PO具有显著影响。因为差的PO导致已曝光平版印刷版前体的可读性降低,从而损害工作流程,所以需要优化PO。本发明涉及该问题。
发明内容
本发明提供一种平版印刷版前体,其包括:
衬底,其包括亲水表面;
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