[发明专利]模拟树脂光学性质的传感器有效
申请号: | 201780081512.7 | 申请日: | 2017-12-14 |
公开(公告)号: | CN110114202B | 公开(公告)日: | 2021-07-13 |
发明(设计)人: | G.库珀 | 申请(专利权)人: | 3D系统公司 |
主分类号: | B29C64/135 | 分类号: | B29C64/135;B29C64/393 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 姜云霞;傅永霄 |
地址: | 美国南卡*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 模拟 树脂 光学 性质 传感器 | ||
1.一种用于三维打印系统的校准系统,三维打印系统通过逐层过程形成三维制品,其中层通过光引擎选择性地将光固化树脂固化到三维制品的面上的操作形成,所述校准系统包括:
至少一个传感器,包括由光学元件覆盖的光检测器,光学元件模拟光引擎与三维制品的面之间的光路的密集部,光路的密集部包括光固化树脂层;
用于定位至少一个传感器以提供光引擎的侧向构建平面的覆盖的设备;和
控制器,其被配置为:
(a)启动光引擎,以在侧向位置照射构建平面;
(b)响应于从光引擎接收的光,从至少一个传感器接收信号;
(c)重复(a)-(b)直到定义了映射光引擎构建平面的校准值集合;和
(d)存储光引擎的校准值集合,校准值补偿作为构建平面的侧向位置的函数的光路变化。
2.根据权利要求1所述的校准系统,其中,由至少一个传感器接收的光限定了相对于中心轴线的轨迹角,轨迹角根据侧向位置而变化,光路的密集部的路径长度随着轨迹角的增加而增加。
3.根据权利要求2所述的校准系统,其中,光路的密集部的长度基本上与光路的密集部内的轨迹角的余弦的倒数成比例。
4.根据权利要求1所述的校准系统,其中,光引擎包括紫外光源。
5.根据权利要求1所述的校准系统,其中,光路的部分还包括透明片,透明片设置在光引擎与光固化树脂层之间。
6.根据权利要求1所述的校准系统,其中,光学元件包括模拟光路的部分的镜面反射特性的衰减器。
7.根据权利要求1所述的校准系统,其中,光学元件包括模拟光路的部分的浊度的漫射器。
8.根据权利要求1所述的校准系统,其中,光引擎生成像素元件阵列。
9.根据权利要求8所述的校准系统,其中,根据步骤(a),多个像素元件被启动以向传感器提供光。
10.根据权利要求8所述的校准系统,其中,根据步骤(a),像素元件中的至少100个被启动以向传感器提供光。
11.根据权利要求8所述的校准系统,其中,根据步骤(a),像素元件中的至少1000个被启动以向传感器提供光。
12.一种用于三维打印系统的校准方法,所述三维打印系统通过逐层过程形成三维制品,其中每层通过光引擎选择性地将光固化树脂固化到三维制品的面上的操作形成,所述方法包括:
(a)在光引擎的光路中提供校准设备,所述校准设备包括:
至少一个传感器,包括由光学元件覆盖的光检测器,光学元件模拟光引擎与三维制品的面之间的光路的密集部的长度,光路的密集部包括光固化树脂层;和
用于定位至少一个传感器以提供光引擎的侧向构建平面的覆盖的设备;和
(b)启动光引擎以在侧向位置照射构建平面;
(c)从至少一个传感器接收对应于从光引擎接收的光的信号;
(d)重复(b)-(c)直到定义了映射光引擎的构建平面的校准值集合;和
(e)存储光引擎的校准值集合,校准值补偿作为构建平面中的侧向位置的函数的光路的密集部的长度变化。
13.根据权利要求12所述的校准方法,其中,由传感器接收的光限定相对于中心轴线的轨迹角,轨迹角根据侧向位置而变化,光路的密集部的路径长度随着轨迹角的增加而增加。
14.根据权利要求13所述的校准方法,其中,光路的密集部的路径长度基本上与光路的密集部内的轨迹角的余弦的倒数成比例。
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