[发明专利]量测图像与设计之间的模拟辅助的对准

权利要求书

1.一种用于确定图案化衬底的参数的方法，包括：

使用设计布局的特性和图案化过程的特性来模拟图像或图像的一个或更多个特性；

确定所述图像或所述图像的一个或更多个特性与所述设计布局或所述设计布局的一个或更多个特性之间的偏差；

基于所述偏差使从经图案化的衬底获得的量测图像与所述设计布局对准，其中所述经图案化的衬底包括使用所述图案化过程由所述设计布局产生的图案；和

根据与所述设计布局对准的所述量测图像确定经图案化的衬底的参数。

2.如权利要求1所述的方法，还包括基于所述参数调整所述设计布局、包括所述设计布局的图案形成装置、和/或所述图案化过程。

3.如权利要求1所述的方法，其中模拟所述图像或所述图像的一个或更多个特性还包括：使用分辨率增强技术的一个或更多个特性或图案形成装置的一个或更多个特性。

4.如权利要求3所述的方法，其中所述分辨率增强技术配置成将辅助特征置放至所述设计布局中。

5.如权利要求3所述的方法，其中所述图案形成装置的所述一个或更多个特性包括所述图案形成装置上的图案的变形。

6.如权利要求1所述的方法，其中所述偏差介于所述设计布局的一个或更多个映射的参考物与所述图像的对应的一个或更多个映射的参考物之间。

7.如权利要求6所述的方法，其中所述一个或更多个映射的参考物包括轮廓中的边缘。

8.如权利要求1所述的方法，其中所述偏差包括边缘置放误差。

9.如权利要求1所述的方法，其中所述量测图像为扫描电子显微图像，和/或其中所述量测图像为像素化的图像。

10.如权利要求1所述的方法，其中对准所述量测图像与所述设计布局包括：从所述量测图像识别轮廓。

11.如权利要求1所述的方法，其中对准所述量测图像与所述设计布局包括：

基于所述偏差的特性确定多个偏差的权重；

计算表征所述偏差中的至少一些且为所述设计布局与所述量测图像之间的映射的函数的成本函数；

基于所述成本函数调整所述映射；和

使用所述映射来对准所述量测图像和所述设计布局。

12.如权利要求11所述的方法，其中所述偏差的特性包括所述偏差的幅值。

13.如权利要求11所述的方法，其中所述权重中的至少一个为零。

14.如权利要求11所述的方法，其中所述映射表示所述量测图像与所述设计布局之间的一个或更多个相对的变形。

15.一种非暂时性计算机程序存储介质，所述非暂时性计算机程序存储介质包括机器可读指令，所述机器可读指令用于使处理器执行如权利要求1所述的方法。