[发明专利]用于测量光学仪器的聚焦状态的系统和方法在审

专利信息
申请号: 201780080922.X 申请日: 2017-12-21
公开(公告)号: CN110121669A 公开(公告)日: 2019-08-13
发明(设计)人: L·西尔维斯特里;M·C·穆伦布罗伊希;L·萨科尼;F·S·帕瓦内 申请(专利权)人: 欧洲非线性光谱实验室(LENS);国家研究委员会;佛罗伦萨大学
主分类号: G02B7/34 分类号: G02B7/34;G02B21/24
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 曾琳
地址: 意大利*** 国省代码: 意大利;IT
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摘要:
搜索关键词: 出射光瞳 光学仪器 测量光学 光学元件 聚焦状态 二维 光瞳 偏转 方法描述 刚性横向 距离确定 反射镜 非重叠 棱镜 光路 散焦 物镜 显微镜 聚焦 计算机
【权利要求书】:

1.一种用于测量光学仪器(1)的聚焦状态的系统(6),所述系统(6)包括:

-至少一个第一光学元件(7、8a、8b、8),所述至少一个第一光学元件(7、8a、8b、8)被配置为形成所述光学仪器(1)的物镜(2)的出射光瞳(P)的像(P’);

-至少一个第二光学元件(9、9a、9b、9’、12),所述至少一个第二光学元件(9、9a、9b、9’、12)被基本上放置在形成所述出射光瞳(P)的所述像(P’)的地方,并且被配置为使来自所述出射光瞳(6)的光线的至少一部分偏转,以使得在所述出射光瞳(P)的所述像(P’)的下游,来自所述出射光瞳(P)的第一部分的第一光线(R1)和来自所述出射光瞳(P)的第二部分的第二光线(R2)跟随分开的光路,并且被聚焦到两个二维像(IM1、IM2)中,所述出射光瞳(P)的所述第一部分和所述第二部分是不重叠的;以及

-计算机(13),所述计算机(13)被配置为将所述两个二维像(IM1、IM2)之间的相互距离(Y)确定为所述两个二维像(IM1、IM2)之间的相互刚性横向位移,并且基于所述相互距离(Y),确定所述光学仪器(1)的对应的散焦。

2.根据权利要求1所述的系统(6),其中,所述至少一个第一光学元件(7、8a、8b、8)包括能够定位在所述光学仪器(1)的所述物镜(2)的上游的分束器(7),所述分束器(7)被配置为捕获来自所述物镜(2)的光,并且使光的一部分沿着所述系统(6)的光轴(z’)偏转。

3.根据权利要求2所述的系统(6),其中,所述至少一个第二光学元件(9、9a、9b、9’、12)被配置为捕获来自所述出射光瞳(P)的所述第一部分的所述第一光线(R1)和/或来自所述出射光瞳(P)的所述第二部分的所述第二光线(R2),并且使这些光线远离所述光轴(z’)偏转。

4.根据权利要求3所述的系统(6),其中,所述至少一个第二光学元件(9、9a、9b、9’、12)包括至少一个棱镜(9)或至少一个反射镜(9a、9b、9’),所述至少一个棱镜(9)或至少一个反射镜(9a、9b、9’)被基本上放置在形成所述出射光瞳(P)的所述像(P’)的地方。

5.根据前述任一项权利要求所述的系统(6),其中,所述至少一个第二光学元件(9、9a、9b、9’、12)还包括被基本上放置在形成所述出射光瞳(P)的所述像(P’)的地方的掩膜(12),所述掩膜(12)包括两个开口,所述两个开口限定所述第一光线(R1)来自的所述出射光瞳(P)的所述第一部分和所述第二光线(R2)来自的所述出射光瞳(P)的所述第二部分。

6.根据前述任一项权利要求所述的系统(6),其中,所述计算机(13)被配置为:对所述两个二维像(IM1、IM2)应用全局价值函数,从而提供它们的相似性的测量,并且将所述相互距离(Y)确定为使所述全局价值函数的值最大化的所述两个二维像(IM1、IM2)之间的相互刚性横向位移。

7.根据权利要求6所述的系统(6),其中,所述全局价值函数包括所述二维像(IM1、IM2)之间的二维互相关或所述两个二维像(IM1、IM2)之间的相互信息函数。

8.根据权利要求6或7所述的系统(6),其中,所述计算机(13)被配置为:通过对所述两个二维像(IM1、IM2)应用至少两个不同的全局价值函数来计算所述相互距离(Y)的至少两个值,并且通过组合所述至少两个值来确定所述相互距离(Y)的唯一值。

9.根据前述任一项权利要求所述的系统(6),其中,所述计算机(13)被配置为通过应用其系数取决于所述光学仪器(1)的光学性质的方程Y(Δz)的逆方程,来基于所述相互距离(Y)确定所述光学仪器(1)的所述散焦。

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