[发明专利]包含金属氧化物纳米粒子和有机聚合物的旋转涂布材料组合物有效
申请号: | 201780079384.2 | 申请日: | 2017-12-19 |
公开(公告)号: | CN110100206B | 公开(公告)日: | 2022-06-17 |
发明(设计)人: | M·D·拉曼;姚晖蓉;赵俊衍;M·派德曼娜斑;E·沃尔福 | 申请(专利权)人: | 默克专利有限公司 |
主分类号: | G03F7/09 | 分类号: | G03F7/09;H01L21/027;H01L21/033;H01L21/308;H01L21/311 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 夏正东 |
地址: | 德国达*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 包含 金属 氧化物 纳米 粒子 有机 聚合物 旋转 材料 组合 | ||
1.一种涂料组合物,包含有机溶剂、在这种有机溶剂中分散的金属氧化物纳米粒子、在这种溶剂中溶解的高碳聚合物,其中所述高碳聚合物包括结构(1)的重复单元、结构(2)的羟基联苯基重复单元和结构(3)的含稠合芳族部分的部分,其中R1和R2独立地选自氢、烷基和取代烷基,Ar是未取代或取代的稠合芳环,和X1是亚烷基间隔基,或直接价键
2.权利要求1的涂料组合物,其中所述高碳聚合物包括用结构(4)表示的单元,其中A具有结构(3),B具有结构(1)和C具有结构(2)
3.权利要求1的涂料组合物,其中在结构(3)中X1是亚烷基间隔基。
4.权利要求1的涂料组合物,其中在结构(3)中X1是直接价键。
5.权利要求1的涂料组合物,其中所述稠合芳族部分具有结构(3a)
[-Ar-CH2-] (3a)。
6.权利要求1的组合物,其中所述含稠合芳族的部分具有结构(3b)
7.权利要求1的组合物,其中所述含稠合芳族的部分,Ar,是稠合芳环且X1是直接价键。
8.权利要求1的组合物,其中所述含稠合芳族的部分,Ar,具有2至5个芳环且X1是直接价键。
9.权利要求1的组合物,其中所述高碳聚合物进一步包括结构(5)的单元,其中Ar′是具有2至5个芳环的稠合芳环
10.权利要求1的组合物,其中所述高碳聚合物结构(1)具有结构(1a)
11.权利要求1的组合物,其中所述高碳聚合物结构(2)具有结构(2a)
12.权利要求1的组合物,其中所述金属氧化物纳米粒子选自氧化锆纳米粒子、氧化铪纳米粒子、氧化铝纳米粒子、氧化 钨纳米粒子、氧化钛纳米粒子、氧化铜纳米粒子、氧化亚铜纳米粒子、氧化锡纳米粒子、氧化铈纳米粒子、氧化锡铟纳米粒子、氧化锌纳米粒子、氧化钇纳米粒子、氧化镧纳米粒子和氧化铟纳米粒子。
13.权利要求1的组合物,其中所述组合物包含5wt%至20wt%的金属氧化物纳米粒子。
14.权利要求1的组合物,其中所述组合物包含1wt%至20wt%的高碳聚合物。
15.权利要求1的组合物,其中所述金属氧化物纳米粒子对高碳聚合物的重量比范围为50:50至99:1。
16.在基底上涂布硬掩模组合物的方法,该方法包括步骤a)至b):
a)施加权利要求1的组合物到基底上以形成硬掩模膜;和
b)烘烤该硬掩模膜。
17.权利要求16的方法,其中所述基底是含形貌特征的构图基底,和硬掩模组合物的涂层覆盖所述形貌,和进一步其中在步骤b)中在烘烤该膜之后,该方法进一步包括步骤c):
c)采用化学剥离剂或利用氟化等离子体蚀刻,去除覆盖构图基底顶部的硬掩模膜。
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