[发明专利]包含用于无空隙填充的抑制试剂的用于金属电镀的组合物

权利要求书

1.一种水性组合物，包含金属离子和至少一种式I化合物：

其中

X¹选自直链或支化C₁-C₁₂链烷二基，其可经取代或未经取代，且其可任选地间隔有O、S或NR⁴⁰；

R¹¹选自Z、X⁵-Z和X⁴-N(Z)₂；

Z为式III的支化基团

R¹²、R¹³、R¹⁴选自H、R¹¹、R⁴⁰，或R¹³和相邻基团R¹⁴可一起形成二价基团X¹³，或若n2，则两个相邻基团R¹⁴可一起形成二价基团X¹³；

R³¹、R³²独立地选自(a)一价C₂-C₆聚氧化烯基团，或(b)其他支化基团以形成多支化基团(Z^p)_p(R³¹R³²)_2p；

Z^p选自

R⁴⁰选自(a)直链或支化C₁-C₂₀烷基，其可任选地经羟基、烷氧基或烷氧羰基取代，和(b)直链或支化C₁-C₂₀链烯基，其可任选地经羟基、烷氧基或烷氧羰基取代；

X³为直链或支化C₁-C₁₂链烷二基，其可间隔有O和S原子或经O-R³¹取代；

X⁴为直链或支化C₁-C₁₂链烷二基；

X⁵为选自至少一个C₂-C₆聚氧化烯的二价基团；

X¹³选自直链或支化C₁-C₁₂链烷二基，其可任选地间隔有O、S或NR⁴⁰；n为整数0-4；和

p为整数2-4。

2.根据权利要求1的组合物，其中X¹选自C₁-C₆链烷二基和-(CH₂)_q-[Q-(CH₂)_r]_s-，其中Q选自O、S或NR⁴⁰且q+rs为X¹中的碳原子总数。

3.根据权利要求1的组合物，其中

R³¹和R³²为独立地选自至少一个C₂-C₆聚氧化烯基的一价基团，和

X⁵为独立地选自至少一个C₂-C₆聚氧化烯基的二价基团。

4.根据权利要求2的组合物，其中

R³¹和R³²为独立地选自至少一个C₂-C₆聚氧化烯基的一价基团，和

X⁵为独立地选自至少一个C₂-C₆聚氧化烯基的二价基团。

5.根据权利要求1的组合物，其中X³和X⁴独立地选自甲烷二基、乙烷二基、丙烷二基和丁烷二基。

6.根据权利要求2的组合物，其中X³和X⁴独立地选自甲烷二基、乙烷二基、丙烷二基和丁烷二基。