[发明专利]用于校准光场投射系统的系统、设备和方法

权利要求书

1.一种被配置为校准光场投射系统的系统，包括：

投射单元，可操作以将扫描序列朝向具有多个凸反射元件的屏幕投射，其中投射的扫描序列根据基线强度简档被调制；

校准设备，其被布置在投射单元和屏幕之间以使得扫描序列的一部分在到达屏幕之前被校准设备截取，其中校准设备包括：(a)第一光检测器，其被设置为检测扫描序列的被截取部分作为截取的强度简档，和(b)第二光检测器，被设置为检测从屏幕反射的扫描序列的反射部分作为测量的强度简档；和

控制系统，被配置为：

(a)基于基线强度简档和截取的强度简档确定对应于第二光检测器的预期强度简档；和

(b)基于测量的强度简档与预期强度简档的比较来修改光场投射系统的操作。

2.根据权利要求1所述的系统，其中所述第二光检测器位于相对于所述屏幕的视角处。

3.根据权利要求2所述的系统，其中所述视角对应于包括相对于所述屏幕的水平位置和垂直位置的坐标的唯一集合。

4.根据权利要求2所述的系统，其中所述视角对应于观看者的眼睛相对于所述屏幕的视角，并且其中所述观看者的眼睛的位置被所述光场投射系统追踪。

5.根据权利要求1所述的系统，还包括一个或多个附加光检测器，每个附加光检测器被设置为检测从屏幕反射的扫描序列的附加反射部分作为附加的测量的强度简档，其中控制系统还被配置为确定针对所述一个或多个附加检测器中的每一个的附加预期强度简档。

6.根据权利要求1所述的系统，其中每个附加光检测器相对于所述屏幕位于与每个其他附加光检测器和所述第二光检测器不同的视角。

7.根据权利要求1所述的系统，其中，所述第一光检测器被设置为面向所述投射单元。

8.根据权利要求1所述的系统，其中，所述第二光检测器被设置为面向所述屏幕。

9.根据权利要求1所述的系统，其中，所述校准设备还包括镜像元件，所述镜像元件被设置为面向所述投射单元，并且其中所述镜像元件还被设置为将所述扫描序列的被截取部分朝向所述第一光检测器反射。

10.根据权利要求1所述的系统，其中，所述控制系统被配置为通过修改所述投射单元的控制系统来修改所述光场投射系统的操作，其中所述投射单元的控制系统被配置为确定光场调制方案，所述光场调制方案被投射单元的调制器用于投射能够从多个视角同时观看的光场。

11.根据权利要求10所述的系统，其中，所述控制系统被配置为通过改变所述光场调制方案来修改所述投射单元的控制系统。

12.根据权利要求11所述的系统，其中改变所述光场调制方案包括从所述光场调制方案添加或移除一个或多个时间延迟。

13.根据权利要求11所述的系统，其中改变所述光场调制方案包括在所述光场调制方案中的一个或多个时间增大或减小光强度。

14.根据权利要求1所述的系统，其中使用不在可视光谱内的波长的光投射所述扫描序列。

15.根据权利要求1所述的系统，其中所述基线强度简档对应于为了校准而投射的专用光场。

16.根据权利要求1所述的系统，还包括发送器，所述发送器被配置为将测量的强度简档或截取的强度简档发送到所述控制系统。

17.根据权利要求1所述的系统，还包括加速度计，所述加速度计被配置为追踪所述校准设备的任何运动，其中所追踪的运动能够由所述控制系统用于从所测量的强度简档去卷积所述校准设备的运动。