[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法、电子器件的制造方法、及光酸产生剂

权利要求书

1.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其含有(A)通过光化射线或放射线的照射产生pKa为-1.40以上的酸的光酸产生剂、及(B)含有具有酸分解性基的重复单元的树脂，其中所述具有酸分解性基的重复单元的Eth灵敏度为5.64以下，树脂(B)中的具有芳香族基的重复单元相对于总重复单元为5摩尔％以下，

通过光化射线或放射线的照射所述光酸产生剂(A)产生的酸为由下述通式(a)、(b)及(I)～(V)中的任意式所表示的磺酸；

上述通式(a)中，Rf₁表示氟原子或包含氟原子的烷基，R₁表示1价有机基，

上述通式(b)中，Rf₂及Rf₃各自独立地表示氟原子或包含氟原子的烷基，R₂表示1价有机基，

上述通式(I)中，R¹¹及R¹²各自独立地表示1价有机基，R¹³表示氢原子或1价有机基，L₁表示由-CO-O-、-CO-、-O-、-S-、-O-CO-、-S-CO-或-CO-S-所表示的基团，R¹¹、R¹²及R¹³中的2个任选地相互键合而形成环，

上述通式(II)中，R²¹及R²²各自独立地表示1价有机基，R²³表示氢原子或1价有机基，L₂表示由-CO-、-O-、-S-、-O-CO-、-S-CO-或-CO-S-所表示的基团，R²¹、R²²及R²³中的2个任选地相互键合而形成环，

上述通式(III)中，R³¹及R³³各自独立地表示氢原子或1价有机基，R³¹与R³³任选地相互键合而形成环，

上述通式(IV)中，R⁴¹及R⁴³各自独立地表示氢原子或1价有机基，R⁴¹与R⁴³任选地相互键合而形成环，

上述通式(V)中，R⁵¹、R⁵²及R⁵³各自独立地表示氢原子或1价有机基，R⁵¹、R⁵²及R⁵³中的2个任选地相互键合而形成环，

所述具有酸分解性基的重复单元为以下的重复单元：

2.根据权利要求1所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

所述磺酸为1个氟原子与磺酸基的α位的碳原子键合的烷基磺酸。

3.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其不包含通过光化射线或放射线的照射产生pKa小于-1.40的酸的光酸产生剂。

4.一种感光化射线性或感放射线性膜，其由权利要求1至3中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物所形成。

5.一种图案形成方法，其具备：

通过权利要求1至3中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成感光化射线性或感放射线性膜的工序；

对所述感光化射线性或感放射线性膜照射光化射线或放射线的工序；及

对照射了光化射线或放射线的感光化射线性或感放射线性膜进行显影的工序。

6.一种电子器件的制造方法，其包括权利要求5所述的图案形成方法。