[发明专利]用于基于光栅的X射线成像的干涉仪光栅支撑物和/或用于其的支撑物托架在审
申请号: | 201780076078.3 | 申请日: | 2017-11-30 |
公开(公告)号: | CN110049727A | 公开(公告)日: | 2019-07-23 |
发明(设计)人: | R·普罗克绍;T·克勒 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦有限公司 |
主分类号: | A61B6/03 | 分类号: | A61B6/03;A61B6/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 李光颖;王英 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光栅 支撑物 滤波器 计算机可执行指令 低能量光子 第二端部 第一端部 弧形光栅 干涉仪 准直器 伸长 处理器 附着 射束 非瞬态计算机 领结 彼此分开 成像系统 非零距离 检查区域 可读介质 辐射源 运行时 托架 配置 计算机 干涉 移动 支撑 | ||
1.一种被配置用于基于光栅的X射线成像的成像系统(100)的干涉仪光栅支撑物(118),包括:
至少两个伸长支撑物(302),其彼此分开非零距离,其中,所述至少两个伸长支撑物具有第一端部(312)和第二端部(316);
第一弧形光栅(202),其被附着到所述至少两个伸长支撑物的所述第一端部;以及
第二弧形光栅(204),其被附着到所述至少两个伸长支撑物的所述第二端部。
2.根据权利要求1所述的光栅支撑物,其中,所述第一弧形光栅包括干涉仪的源光栅,并且所述第二弧形光栅包括所述干涉仪的相位光栅或者吸收器光栅。
3.根据权利要求1至2中的任一项所述的光栅支撑物,还包括:
领结滤波器(206),其被设置在所述至少两个伸长支撑物、所述第一弧形光栅、以及所述第二弧形光栅之间。
4.根据权利要求1至3中的任一项所述的光栅支撑物,其中,所述第一弧形光栅与所述第二弧形光栅之间的距离是八厘米与三十厘米之间的值。
5.根据权利要求1至4中的任一项所述的光栅支撑物,其中,所述第一弧形光栅与所述第二弧形光栅之间的距离是大约十厘米或二十厘米。
6.根据权利要求1至5中的任一项所述的光栅支撑物,其中,所述第一弧形光栅的第一弧和所述第二弧形光栅的第二弧遵循具有与所述系统中的焦斑位置相对应的中心点的同心圆的周长。
7.根据权利要求1至5中的任一项所述的光栅支撑物,其中,所述至少两个伸长支撑物从所述第二弧形光栅到所述第一弧形光栅成锥形并且关于通过所述至少两个伸长支撑物的中心的垂直线是对称的。
8.一种被配置用于基于光栅的X射线成像的成像系统,包括:
机架(104);
辐射源(208);
探测器阵列(212),其跨来自所述辐射源的检查区域设置;
光栅支撑物,其被设置在所述辐射源与所述检查区域之间;
干涉仪,其包括:
光栅G0(202);
光栅G1(204),其中,所述光栅支撑物支撑所述光栅G0和G1;以及
光栅G2(116),其被设置在所述检查区域与所述探测器阵列之间。
9.根据权利要求8所述的成像系统,还包括:
支撑物托架(802),其被配置为仅支撑所述光栅支撑物。
10.根据权利要求8所述的成像系统,还包括:
支撑物托架(902),其被配置为支撑所述光栅支撑物和至少一个其他射束调节部件(904、906)。
11.根据权利要求10所述的成像系统,还包括:
子系统(908、910、912),其被配置为在所述子系统内移动所述支撑物托架以交替地将所述光栅支撑物或所述至少一个其他射束调节部件定位在X射线束的路径中。
12.根据权利要求8至11中的任一项所述的成像系统,还包括:
低能量光子滤波器(208),其被设置在所述辐射源与所述源光栅之间。
13.根据权利要求8至12中的任一项所述的成像系统,还包括:
射束准直器(212),其被设置在所述相位光栅与所述检查区域之间。
14.根据权利要求10所述的成像系统,还包括:
低能量光子滤波器,其被设置在所述辐射源与所述源光栅之间,其中,所述光栅支撑物支撑所述低能量光子滤波器。
15.根据权利要求10或14中的任一项所述的成像系统,还包括:
射束准直器,其被设置在所述相位光栅与所述检查区域之间,其中,所述光栅支撑物支撑所述射束准直器。
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