[发明专利]用于DUV光源中的逐脉冲波长目标跟踪的波长控制系统有效

专利信息
申请号: 201780075020.7 申请日: 2017-11-07
公开(公告)号: CN110036331B 公开(公告)日: 2022-04-05
发明(设计)人: R·阿拉瓦特;T·P·达菲 申请(专利权)人: 西默有限公司
主分类号: G02B26/10 分类号: G02B26/10;H01S3/13
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华;郭星
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 duv 光源 中的 脉冲 波长 目标 跟踪 控制系统
【权利要求书】:

1.一种激光波长控制的方法,包括:

(a)在激光系统的激光系统控制器中,接收新指定的激光波长目标;

(b)由所述激光系统以所述新指定的激光波长目标生成激光脉冲突发;

(c)在所述激光系统控制器中,基于所测量的晶片位置误差接收波长目标的变化;

(d)基于所接收的波长目标的变化来调节所述激光系统中的棱镜位置;

(e)由所述激光系统使用经调节的棱镜位置生成所述激光脉冲突发中的下一激光脉冲;以及

(f)当由所述激光系统接收到波长目标的附加变化时,重复步骤(c)-(e);

其中调节所述激光系统中的所述棱镜位置是基于前馈操作。

2.根据权利要求1所述的方法,还包括当接收到另一新指定的激光波长目标时,重复步骤(a)到(f)。

3.根据权利要求1所述的方法,其中所述新指定的波长目标每隔几秒钟在所述激光系统中被接收。

4.根据权利要求1所述的方法,其中波长目标的所述变化约每50毫秒在所述激光系统中被接收。

5.根据权利要求1所述的方法,其中使用以下公式基于所述前馈操作来调节所述激光系统中的所述棱镜位置:

其中N是可变增益,A是系统矩阵,B是输入矩阵,C是输出矩阵,I是单位矩阵,K是全状态反馈增益矩阵,并且L是估计器增益矩阵。

6.根据权利要求5所述的方法,其中调节所述激光系统中的所述棱镜位置进一步包括:基于前馈操作并且基于反馈操作来调节所述棱镜位置。

7.一种用于逐脉冲激光波长控制的激光系统,包括:

激光源;

线缩窄模块,包括棱镜;

压电换能器和驱动电子器件;以及

控制器,被配置为:

(a)接收新指定的激光波长目标;

(b)引导所述激光源开始以所述新指定的激光波长目标生成激光脉冲突发;

(c)基于所测量的晶片位置误差接收波长目标的变化;

(d)基于所接收的波长目标的变化使用所述压电换能器和所述驱动电子器件调节所述线缩窄模块中的棱镜位置;

(e)引导所述激光源生成穿过经调节的棱镜位置的所述激光脉冲突发中的下一激光脉冲;以及

(f)当接收到波长目标的附加变化时,重复步骤(c)-(e);

其中所述控制器被配置为基于前馈操作调节所述棱镜位置。

8.根据权利要求7所述的激光系统,其中所述控制器还被配置为当接收到另一新指定的激光波长目标时,重复步骤(a)到(f)。

9.根据权利要求7所述的激光系统,所述控制器被配置为使用以下公式基于所述前馈操作来调节所述棱镜位置:

其中N是可变增益,A是系统矩阵,B是输入矩阵,C是输出矩阵,I是单位矩阵,K是全状态反馈增益矩阵,并且L是估计器增益矩阵。

10.根据权利要求9所述的激光系统,其中所述控制器被配置为至少部分地基于前馈操作并且也至少部分地基于反馈操作来调节所述棱镜位置。

11.一种在光刻系统中使用通过激光系统生成的激光在晶片上执行光刻的方法,包括:

(a)接收激光波长目标;

(b)以所述激光波长目标生成激光脉冲突发中的第一激光脉冲;

(c)测量晶片位置误差;

(d)基于所测量的晶片位置误差获取波长目标的变化;

(e)基于所获取的波长目标的变化来调节所述激光系统中的棱镜位置;以及

(f)使用经调节的棱镜位置生成所述激光脉冲突发中的第二激光脉冲,其中响应于所接收的波长目标的变化来调节所述棱镜位置的步骤以比接收所述激光波长目标的步骤更大的频率发生;

其中调节所述棱镜位置包括至少部分基于前馈操作调节所述棱镜位置。

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