[发明专利]抗反射膜、抗反射元件、偏光板和显示装置

权利要求书

1.一种抗反射膜，包括具有不同折射指数的至少两层，

其中，所述抗反射膜的最上层包括：粘合剂，所述粘合剂包括通过交联包括光反应性含氟单体A的聚合物和包括具有至少一个羟基和至少两个光反应性官能团的单体B的聚合物得到的交联产物；分散在所述粘合剂中的中空二氧化硅颗粒；光反应性含氟聚合物；以及具有通过硅氧烷键合的主链a的聚合物，所述光反应性含氟聚合物与所述具有通过硅氧烷键合的主链a的聚合物分散在所述最上层的最上表面上，

所述最上层的折射指数小于1.310，

所述最上层的表面的光反射率小于0.20％，

所述最上层的钢丝棉承载能力为300g/cm²或更高。

2.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中所述具有通过硅氧烷键合的主链a的聚合物是光反应性改性硅酮聚合物。

3.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中所述粘合剂包括聚合物C，所述聚合物C具有以式(1)表示的通过硅氧烷键合的主链，构成所述通过硅氧烷键合的主链的单元具有直接连接到硅原子的一个甲氧基和直接连接到所述硅原子的一个甲基，并且所述聚合物C将成为具有通过硅氧烷键合的主链a的聚合物：

式1

其中n为2至10的整数。

4.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中所述最上层堆叠在硬涂层上，所述硬涂层的折射指数为1.500至1.650。

5.根据权利要求2所述的抗反射膜，其中使用涂层液形成所述最上层，所述涂层液以固体含量计，相比于100质量份的所述涂层液，含有20质量份至40质量份的所述光反应性含氟单体A，5质量份至20质量份的具有至少一个羟基和至少两个光反应性官能团的所述单体B，45质量份至56质量份的所述中空二氧化硅颗粒，1质量份至10质量份的所述光反应性含氟聚合物，1质量份至3质量份的所述光反应性改性硅酮聚合物，和1质量份至5质量份的光聚合引发剂。

6.根据权利要求5所述的抗反射膜，其中所述光反应性含氟聚合物的重均分子量为2,000至10,000且所述光反应性改性硅酮聚合物的重均分子量为10,000至50,000。

7.根据权利要求3所述的抗反射膜，其中使用涂层液形成所述最上层，所述涂层液以固体含量计，相比于100质量份的所述涂层液，含有10质量份至30质量份的所述光反应性含氟单体A，3质量份至10质量份的具有至少一个羟基和至少两个光反应性官能团的所述单体B，45质量份至56质量份的所述中空二氧化硅颗粒，1质量份至10质量份的所述光反应性含氟聚合物，5质量份至15质量份的聚合物C，和1质量份至5质量份的光聚合引发剂。

8.一种抗反射元件，包括透明基材和形成在所述透明基材上的权利要求1至7任一项所述的抗反射膜，其中所述抗反射膜包括依次堆叠在所述透明基材上的硬涂层和所述最上层。

9.一种偏光板，包括在其最上表面上形成的权利要求1至7中任一项所述的抗反射膜。

10.一种包括权利要求9所述的偏光板的显示装置。