[发明专利]用于去除蚀刻后残留物的清洁组合物

权利要求书

1.一种储备组合物，其包含：

氢氧化四烷基铵碱或季铵化三烷基烷醇胺碱；

腐蚀抑制剂；和

至少两种或超过两种多元酸或其盐的组合，其中至少一种所述多元酸或其盐含有磷。

2.根据权利要求1所述的组合物，其中所述至少两种或超过两种多元酸或其盐的组合包含磷酸、膦酸或其盐。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的组合物，其中所述至少两种或超过两种多元酸或其盐的组合包含磷酸、二膦酸或其组合。

4.根据任一前述权利要求所述的组合物，其中所述至少两种或超过两种多元酸或其盐的组合包含聚羧酸或其盐。

5.根据权利要求4所述的组合物，其中所述聚羧酸或其盐包含草酸和烷基二胺四乙酸中的一或多者。

6.根据任一前述权利要求所述的组合物，其包含氧化剂，所述氧化剂包含杂环胺N-氧化物。

7.根据权利要求6所述的组合物，其中所述氢氧化四烷基铵碱或季铵化三烷基烷醇胺碱以及包含杂环胺N-氧化物的氧化剂一起组成所述组合物的10重量％与35重量％之间。

8.根据权利要求6或权利要求7所述的组合物，其中所述杂环胺N-氧化物以5重量％至15重量％的量存在。

9.根据权利要求6至8中任一权利要求所述的组合物，其中所述杂环胺N-氧化物包含4-乙基吗啉-N-氧化物、N-甲基哌啶-N-氧化物、3-甲基吡啶N-氧化物、NMMO或其组合。

10.根据任一前述权利要求所述的组合物，其中所述组合物中的氢氧化四烷基铵碱或季铵化三烷基烷醇胺碱的量在5重量％与20重量％之间。

11.根据任一前述权利要求所述的组合物，其中所述氢氧化四烷基铵碱具有式[NR₁R₂R₃R₄]OH，其中R₁、R₂、R₃和R₄彼此相同或不同且选自由H和C₁-C₆烷基组成的群组，且所述季铵化三烷基烷醇胺具有式[R₁R₂R₃NR₄OH]⁺[OH]^-，其中R₁、R₂、R₃和R₄各自为低碳烷基，例如甲基、乙基或丙基。

12.根据任一前述权利要求所述的组合物，其中所述腐蚀抑制剂包含5-甲基苯并三唑、甲苯基三唑、苯并三唑、二甲基苯并三唑或其组合。

13.根据任一前述权利要求所述的组合物，其中腐蚀抑制剂的量在0.1重量％至5重量％之间。

14.根据任一前述权利要求所述的组合物，其包含有机溶剂。

15.根据权利要求14所述的组合物，其中所述溶剂包含二醇醚，且所述组合物中的所述溶剂的量介于10重量％至30重量％范围内。

16.根据任一前述权利要求所述的组合物，其包含余量的水。

17.一种稀释组合物，其包含用在3份与12份之间的稀释氧化剂稀释的1重量份的根据任一前述权利要求所述的组合物。

18.根据权利要求17所述的稀释组合物，其中所述稀释氧化剂包含30％过氧化氢。