[发明专利]有机场致发光元件形成用组合物、有机场致发光元件和有机膜的制造方法

权利要求书

1.一种有机场致发光元件形成用组合物，至少含有电荷注入传输材料、有机溶剂、1种以上的第1表面改性剂和1种以上的第2表面改性剂，

将所述有机溶剂的表面张力设为Sa，将相对于所述有机溶剂100重量份的所述1种以上的第1表面改性剂的合计含量设为C1重量份，将相对于所述有机溶剂100重量份的所述1种以上的第2表面改性剂的合计含量设为C2重量份， 其中，表面张力的单位为mN／m，

C1为0.0001～5，C2为0.0001～5，

第1表面改性剂为聚硅氧烷、对聚硅氧烷进行部分醚改性、酯改性或芳烷基改性而得的化合物、对聚硅氧烷的甲基进行烷基取代而得的化合物、或者对聚硅氧烷加成反应基团而得的反应性聚硅氧烷，

第2表面改性剂为聚氧化烯烷基醚、聚氧乙烯烷基烯丙基醚、聚氧乙烯烷基苯基醚、聚氧乙烯聚氧丙二醇、聚氧乙烯烷基胺、聚氧乙烯枯基苯基醚、山梨糖醇脂肪酸酯、失水山梨糖醇脂肪酸酯、甘油脂肪酸酯、蔗糖脂肪酸酯、蔗糖衍生物、或者脂肪酸酯，

将在所述有机溶剂100重量份中溶解所述第1表面改性剂0.01重量份而得的混合物的表面张力设为S1y时，各所述第1表面改性剂为满足下述式（1）的表面改性剂， 其中，表面张力的单位为mN／m，

Sa－S1y＞1.0 ・・・（1）

将在所述有机溶剂100重量份中溶解所述第2表面改性剂0.01重量份而得的混合物的表面张力设为S2y时，各所述第2表面改性剂为满足下述式（2）的表面改性剂， 其中，表面张力的单位为mN／m，

Sa－S2y≤1.0 ・・・（2）

将所述有机溶剂100重量份和所述C1重量份的所述第1表面改性剂的混合物的表面张力设为S1x时，满足下述式（3）， 其中，表面张力的单位为mN／m，

Sa－S1x＞1.0 ・・・（3）

将所述有机溶剂100重量份和所述C2重量份的所述第2表面改性剂的混合物的表面张力设为S2x时，满足下述式（4）， 其中，表面张力的单位为mN／m，

Sa－S2x＜1.0 ・・・（4）。

2.根据权利要求1所述的有机场致发光元件形成用组合物，其中，所述C1为0.001～1。

3.根据权利要求1所述的有机场致发光元件形成用组合物，其中，所述C1为0.005以上。

4.根据权利要求1所述的有机场致发光元件形成用组合物，其中，所述C1为0.1以下。

5.根据权利要求1所述的有机场致发光元件形成用组合物，其中，所述C2为0.001～1。

6.根据权利要求1所述的有机场致发光元件形成用组合物，其中，所述C2为0.005以上。

7.根据权利要求1所述的有机场致发光元件形成用组合物，其中，所述C2为0.1以下。

8.一种有机膜的制造方法，包括向被隔壁划分的区域涂布权利要求1～7中任一项所述的有机场致发光元件形成用组合物、使涂布的所述有机场致发光元件形成用组合物干燥。

9.一种有机场致发光元件的制造方法，包括权利要求8所述的有机膜的制造方法。

10.一种有机场致发光元件的制造方法，由权利要求8所述的有机膜的制造方法形成的有机膜是空穴注入层、空穴传输层或发光层中的至少一个。