[发明专利]包含耐受光降解的染料的光学制品

权利要求书

1.一种包含至少一种吸收性染料的光学制品，所述吸收性染料包含具有下式的以下基团中的任一个：

其中R表示芳基或烷基，X¹和X²独立地表示O或N-R¹基团，其中R¹表示烷基或芳基，并且具有式(I)、(II)和(III)的基团具有至少一个被选自-OH、-CN、溴、-NO₂、烷氧基、芳氧基、-CO₂H、-CHO、-CO烷基、-CO芳基、卤代烷基、-SH、-S-烷基、-S-芳基、-SO₂烷基、-OSO₂烷基、-SO₂芳基和-OSO₂芳基的基团取代的碳原子，或具有至少两个被氯基团取代的碳原子，并且其中所述具有式(III)的染料不包含任何SO₃H基团或其盐，并且所述具有式(II)的染料不是具有下式中的任一个的化合物：

2.根据权利要求1所述的光学制品，其中所述吸收性染料至少部分地抑制包括在100-380nm波长范围、380-780nm波长范围、和/或780-1400nm波长范围内的至少一个选定波长范围内的光的透射。

3.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中所述光学制品具有基材，将所述至少一种吸收性染料结合到所述基材中。

4.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中将所述至少一种吸收性染料结合到沉积在所述光学制品的主表面上的涂层中。

5.根据权利要求4所述的光学制品，其中所述涂层是减反射涂层、耐磨损和/或耐刮擦涂层或底漆涂层。

6.根据权利要求4所述的光学制品，其中所述涂层是环氧涂层。

7.根据权利要求4至6中任一项所述的光学制品，其中所述至少一种吸收性染料以相对于所述涂层的重量范围从0.01％至1.25％的量存在。

8.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中所述具有式(I)、(Ia)、(II)和(III)的基团具有至少一个被选自-OH、-CN、溴、NO₂、烷氧基和芳氧基的基团取代的碳原子。

9.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中所述具有式(I)、(II)和(III)的基团具有至少一个被给电子基团取代的碳原子和至少一个被吸电子基团取代的碳原子，并且所述具有式(Ia)的基团具有至少一个被给电子基团取代的碳原子。

10.一种用于包含至少一种吸收性染料的光学制品的光学过滤涂层，所述吸收性染料包含具有下式的以下基团中的任一个：

其中R表示芳基或烷基，X¹和X²独立地表示O或N-R¹基团，其中R¹表示烷基或芳基，并且具有式(I)、(II)、(III)和(IV)的基团具有至少一个被选自-OH、-CN、溴、-NO₂、烷氧基、芳氧基、-CO₂H、-CHO、-CO烷基、-CO芳基、卤代烷基、-SH、-S-烷基、-S-芳基、-SO₂烷基、-OSO₂烷基、-SO₂芳基、-OSO₂芳基和磺酰胺的基团取代的碳原子，或具有至少两个被氯基团取代的碳原子，并且其中所述具有式(III)的染料不包含任何SO₃H基团或其盐。

11.根据权利要求10所述的光学过滤涂层，其中所述涂层是环氧涂层。

12.根据权利要求10所述的光学过滤涂层，其中所述涂层是减反射涂层、耐磨损和/或耐刮擦涂层或底漆涂层。