[发明专利]含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质有效
申请号: | 201780070908.1 | 申请日: | 2017-12-04 |
公开(公告)号: | CN109963894B | 公开(公告)日: | 2022-05-13 |
发明(设计)人: | 福本直也;柳生大辅;山口裕太;植竹祥子;加藤刚;富田浩幸;宫坂隆太;室伏克己 | 申请(专利权)人: | 昭和电工株式会社 |
主分类号: | C08G65/331 | 分类号: | C08G65/331;C10M107/38;G11B5/725;C10N20/00;C10N20/04;C10N30/00;C10N30/06;C10N40/18 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 段承恩;孙丽梅 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 含氟醚 化合物 记录 介质 润滑剂 | ||
本发明提供下述式(1)所示的含氟醚化合物。R1‑R2‑CH2‑R3‑CH2‑R4‑R5(1)(在式(1)中,R1与R5可以相同也可以不同,为碳原子数2~8的烯基或碳原子数3~8的炔基,R2与R4可以相同也可以不同,为具有极性基团的2价连接基团,R3为全氟聚醚链。其中,R1与R2通过氧原子等除碳原子以外的原子的存在而被划分,R4与R5通过氧原子等除碳原子以外的原子的存在而被划分。)。
技术领域
本发明涉及适合于磁记录介质的润滑剂用途的含氟醚化合物、包含该 含氟醚化合物的磁记录介质用润滑剂以及磁记录介质。本申请基于2017 年1月26日在日本申请的特愿2017-012345号来主张优先权,将其内容援 用到本文中。
背景技术
随着近年来信息处理的大容量化,开发出各种信息记录技术,特别是 适于高记录密度的磁记录介质的开发发展了。
以往的磁记录介质为了确保磁记录介质的耐久性、可靠性,在形成在 基板上的磁记录层上设置保护层和润滑层。特别是设置在最表面的润滑层 要求长期稳定性、化学物质耐性(防止硅氧烷等的污染)、耐磨耗性等各种 特性。
对于这样的要求,以往,作为磁记录介质用润滑剂,多数使用在分子 内含有不饱和基的全氟聚醚系润滑剂。
作为全氟聚醚系润滑剂,已知例如,包含含有聚合性不饱和基的全氟 聚醚化合物的全氟聚醚系润滑剂(例如,参照专利文献1)。该润滑剂通过活 性能量射线照射处理而使含有聚合性不饱和基的全氟聚醚化合物进行聚 合,从而润滑剂彼此的结合力提高,显示出优异的静摩擦系数、脱落 (Spin-off)特性。
此外,作为全氟聚醚系润滑剂,已知例如,包含含有光交联性官能团 的化合物的全氟聚醚系润滑剂(例如,参照专利文献2)。该润滑剂通过使含 有光交联性官能团的化合物进行交联,从而润滑剂彼此结合,显示出高的 接合率(Bond rate)。
此外,作为全氟聚醚系润滑剂,已知例如,包含具有可以具有极性基 团的烯基的含氟化合物的全氟聚醚系润滑剂(例如,参照专利文献3)。该润 滑剂显示出优异的润滑性摩擦系数。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2001-209924号公报
专利文献2:日本特开2001-134924号公报
专利文献3:日本专利第2866622号公报
发明内容
发明所要解决的课题
随着近年来的磁记录介质的信息记录密度迅速提高,要求磁头与磁记 录介质的记录层间的磁间距(magnetic spacing)减小。因此,在磁头与磁记 录介质的记录层之间存在的润滑层要求更加的薄膜化。形成磁记录介质的 最表面的润滑层所使用的润滑剂对磁记录介质的耐久性带来大影响。然而, 润滑层即使薄膜化,对于磁记录介质而言,耐磨耗性等可靠性也是不可或 缺的。
进一步,通过用途的多样化等,磁记录介质所要求的环境耐性变得非 常严格。因此,比以往更要求进一步提高构成润滑层的润滑剂的可靠性、 特别是化学物质耐性等特性,所述润滑层对磁盘的可靠性带来大影响。
然而,一般而言,如果使润滑层的膜厚薄,则不能通过润滑层充分被 覆磁记录介质,有化学物质耐性和耐磨耗性降低的倾向。
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