[发明专利]成像元件和电子设备

说明书

本公开涉及一种能够提高窄波长带的光的检测精度的成像元件和电子设备。所述成像元件包括像素阵列，所述像素阵列包括用于获得图像的有效区域和在所述有效区域周围的周围区域。在所述有效区域内的各像素中设置被构造成透过具有各自不同波长的光的多种第一光学滤波器。在所述周围区域的第一像素中设置第二光学滤波器，第二光学滤波器具有比第一光学滤波器的透过带的带宽更短带宽的透过带。在与第一像素相邻的第二像素中设置第三滤波器，第三滤波器与第二光学滤波器的透过带的差为预定波长以上，或者具有等于或低于第二光学滤波器的透过率的透过率。本技术例如可以适用于CMOS图像传感器。

技术领域

根据本公开的技术(以下也称为本技术)涉及成像元件和电子设备，具体地涉及适合用于检测窄波长带中的光的成像元件和电子设备。

背景技术

传统上已经提出了一种成像元件，其中用于通过使用等离子体滤波器检测预定窄波长带(窄带)中的光(下面也称为窄带光)的像素设置在用于获得图像的区域的周围(参见例如，专利文献1)。

引用文献列表

专利文献

专利文献1：日本专利申请公开No.2012-59865

发明内容

发明要解决的问题

然而，专利文献1中记载的发明没有具体讨论与用于检测窄带光的像素相邻的像素。因此，由于与用于检测窄带光的像素相邻的像素的影响，假设检测精度降低。

本技术已经在这种情况下做出，并且旨在限制窄带光的检测精度的降低。

解决问题的手段

根据本技术第一方面的成像元件包括：像素阵列，所述像素阵列包括用于获得图像的有效区域和在所述有效区域周围的周围区域，其中在所述有效区域内的各像素中设置被构造成透过具有各自不同波长的光的多种第一光学滤波器，在所述周围区域的第一像素中设置第二光学滤波器，第二光学滤波器具有比第一光学滤波器的透过带的带宽更短带宽的透过带，和在与第一像素相邻的第二像素中设置第三滤波器，第三滤波器与第二光学滤波器的透过带的差为预定波长以上，或者具有等于或低于第二光学滤波器的透过率的透过率。

第二光学滤波器的峰值波长与第三滤波器的峰值波长之间的差可以设定为预定波长以上。

在第三滤波器的峰值波长处的透过率可以设定为等于或低于在第二光学滤波器的峰值波长处的透过率。

在第二光学滤波器和第三滤波器之间的透过带的差小于所述预定波长的情况下，在第二光学滤波器的峰值波长处的透过率与在第三滤波器的峰值波长处的透过率之间的差可以设定为预定阈值以上。

遮光膜可以设置在第二像素的光入射侧，并且所述遮光膜可以未设置在第一像素的光入射侧。

在具有与第二像素的图像高度相同图像高度的第三像素中可以设置具有与第二光学滤波器的透过带类似透过带的光学滤波器。

第二光学滤波器可以是等离子体滤波器。

第三滤波器可以是多种第一光学滤波器中的任何一种。

根据本技术第二方面的电子设备包括成像元件；和被构造成处理从所述成像元件输出的信号的信号处理部，其中所述成像元件包括像素阵列，所述像素阵列包括用于获得图像的有效区域和在所述有效区域周围的周围区域，在所述有效区域内的各像素中设置被构造成透过具有各自不同波长的光的多种第一光学滤波器，在所述周围区域的第一像素中设置第二光学滤波器，第二光学滤波器具有比第一光学滤波器的透过带的带宽更短带宽的透过带，和在与第一像素相邻的第二像素中设置第三滤波器，第三滤波器与第二光学滤波器的透过带的差为预定波长以上，或者具有等于或低于第二光学滤波器的透过率的透过率。