[发明专利]含荧光体膜及背光单元有效
| 申请号: | 201780068835.2 | 申请日: | 2017-11-06 |
| 公开(公告)号: | CN109964155B | 公开(公告)日: | 2021-07-09 |
| 发明(设计)人: | 大场达也;远山浩史;柿下健一 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20;F21S2/00;F21V9/00;G02F1/13357;F21Y115/10 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 周欣 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 荧光 背光 单元 | ||
1.一种含荧光体膜,具有:
含荧光体层,其具有对氧具有不透过性且形成有离散配置的多个凹部的树脂层、及配置在形成于所述树脂层的凹部的多个荧光区域;及
第1基材膜和第2基材膜,所述第1基材膜层叠于所述含荧光体层的其中一个主表面上,所述第2基材膜层叠于所述含荧光体层的另一个主表面上,
所述荧光区域包含暴露在氧中便会与氧反应而劣化的荧光体、及粘合剂,
所述第1基材膜包含支撑膜及设置在所述支撑膜的与所述含荧光体层对置的面侧的无机层,
所述树脂层的弹性模量为0.5~10GPa,
所述树脂层的所述凹部的底部的厚度为0.1~20μm,
所述含荧光体层中,所述荧光区域被所述树脂层及包含通过裁剪而暴露在氧中与氧反应而劣化了的荧光体的荧光区域包围。
2.根据权利要求1所述的含荧光体膜,其中,
所述第2基材膜包含支撑膜及设置在所述支撑膜的与所述含荧光体层对置的面侧的无机层,所述第2基材膜的所述无机层与所述树脂层的凹部的顶面未接触。
3.根据权利要求1或2所述的含荧光体膜,其中,
所述树脂层的凹部的深度h为10~80μm,相邻的所述荧光区域之间的宽度t为5~300μm。
4.根据权利要求1或2所述的含荧光体膜,其中,
所述树脂层的氧透过率为10cc/(m2·day·atm)以下。
5.根据权利要求1或2所述的含荧光体膜,其中,
所述第1基材膜及所述第2基材膜的氧透过率为1cc/(m2·day·atm)以下。
6.一种背光单元,其包含:
波长转换部件,由权利要求1至5中任一项所述的含荧光体膜构成;及蓝色发光二极管及紫外线发光二极管中的至少一个。
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