[发明专利]光刻设备和方法

权利要求书

1.一种执行衬底的光刻曝光的方法，所述衬底被保持在衬底台上，所述衬底台包括操作为冷却所述衬底台的冷却系统，所述方法包括：

执行所述衬底的对准测量；

施加热量至所述衬底台以减小由所述冷却系统提供的、对所述衬底台的冷却，所述热量在执行所述对准测量的时刻与执行所述光刻曝光的时刻之间被施加；以及

执行所述衬底的所述光刻曝光；其中

热量的所述施加被配置为减小所述衬底在执行所述对准测量的时间和执行所述光刻曝光的时间之间的热漂移；以及

热量的所述施加被配置为使得所述衬底台的在执行所述对准测量的时刻的温度与所述衬底台的在执行所述衬底的所述光刻曝光的时刻的温度近似相同。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，在所述对准测量已经开始之前开始热量的所述施加。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，在所述对准测量期间开始热量的所述施加。

4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，被施加至所述衬底台的热量的量随时间变化。

5.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中，所述热量跨所述衬底台地分布以实现跨所述衬底台的期望温度。

6.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中，在施加热量至所述衬底台与所述衬底台由于被施加至所述衬底台的所述热量所致的改变温度之间的延迟被用于确定何时施加热量至所述衬底台。

7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述衬底台包括被配置为将所述衬底固定至所述衬底台的夹具，以及其中所述热量被施加至所述夹具。

8.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中，热量的所述施加是基于所述光刻曝光的曝光设置。

9.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中，所述衬底台在光刻工艺期间的温度变化是已知的，以及其中热量的所述施加在所述光刻工艺中的预定的间隔期间发生，所述间隔取决于所述衬底台的已知的所述温度变化。

10.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中，所述衬底台的温度被监视。

11.根据权利要求10所述的方法，其中，所述监视的结果被用于确定热量被施加至所述衬底台的速率。

12.一种用于保持衬底的衬底台，包括：

操作为冷却所述衬底台的冷却系统；

投影系统，被配置为将图案化的辐射束投影至所述衬底的目标部分上；以及

加热元件，被配置为在执行对所述衬底的对准测量的时间和执行对所述衬底的光刻曝光的时间之间施加热量至所述衬底台，以减小由所述冷却系统所提供的、对所述衬底台的冷却；

其中

热量的所述施加被配置为减小所述衬底在执行所述对准测量的时间和执行所述光刻曝光的时间之间的热漂移；以及

热量的所述施加被配置为使得所述衬底台的在执行所述对准测量的时刻的温度与所述衬底台的在执行所述衬底的所述光刻曝光的时刻的温度近似相同。

13.根据权利要求12所述的衬底台，其中所述加热元件被进一步配置为减少在所述衬底上定位的对准标记的集合的热漂移。

14.根据权利要求12或13所述的衬底台，其中，所述加热元件包括电加热器。

15.根据权利要求12或13所述的衬底台，其中，所述加热元件包括多个电加热器，以及其中所述电加热器跨所述衬底台地分布以实现跨所述衬底台的期望温度。