[发明专利]光学体、光学体的制造方法及发光装置在审
| 申请号： | 201780060314.2 | 申请日： | 2017-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN109791248A | 公开（公告）日： | 2019-05-21 |
| 发明（设计）人： | 菊池正尚;梶谷俊一;野上朝彦;樱井恭子;林部和弥 | 申请（专利权）人： | 迪睿合株式会社 |
| 主分类号： | G02B6/00 | 分类号： | G02B6/00;F21S2/00;G02B1/118;G02B5/00 |
| 代理公司： | 北京瑞盟知识产权代理有限公司 11300 | 代理人： | 刘昕;孟祥海 |
| 地址： | 日本国东京都品川区大崎*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学体 基材 凹凸结构 发光装置 可见光波段 凹凸的 入射 光源 制造 取出 改良 侧面 发射 传播 | ||
【权利要求书】：
1.一种光学体，其特征在于，包括
基材；以及
第一凹凸结构，在所述基材的至少一个表面上形成，从所述基材的侧面取出向所述基材的内部入射的内部传播光；
所述第一凹凸结构的凹凸的平均周期为可见光波段的最小值以上且10μm以下。
2.根据权利要求1所述的光学体，其特征在于，
还包括第二凹凸结构，在所述基材的两面中未形成所述第一凹凸结构的区域上形成，凹凸的平均周期小于可见光波段的最小值。
3.根据权利要求2所述的光学体，其特征在于，
所述第二凹凸结构的凸部的平均高度为150nm以上。
4.根据权利要求1～3任一项所述的光学体，其特征在于，
构成所述第一凹凸结构的凹凸的间距随机。
5.根据权利要求1～3任一项所述的光学体，其特征在于，
构成所述第一凹凸结构的凹凸的间距具有周期性。
6.根据权利要求1～5任一项所述的光学体，其特征在于，
所述第一凹凸结构的凸部的平均高度为100nm以上。
7.一种母盘，其特征在于，
在表面形成权利要求1～6任一项所述的光学体的反转形状。
8.一种光学体的制造方法，其特征在于，包括
制作在表面形成权利要求1～6任一项所述的光学体的反转形状的母盘的步骤；以及
将所述母盘的表面形状转印至基材上的步骤。
9.一种发光装置，其特征在于，包括
权利要求1～6任一项所述的光学体；以及
设置于所述光学体的侧面、从所述光学体的侧面向所述光学体的内部入射光的光源。
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