[发明专利]波长色散型荧光X射线分析装置

说明书

一种波长色散型荧光X射线分析装置，包括单一的一维检测器(10)，该一维检测器(10)具有呈直线状排列的多个检测元件(7)，该波长色散型荧光X射线分析装置包括检测器位置变更机构(11)，该检测器位置变更机构(11)用于针对一维检测器(10)的位置，设定在检测元件(7)的排列方向与分光元件(6)中的分光角度方向平行的平行位置和与该分光元件(6)中的分光角度方向相交叉的交叉位置中的任意者，在平行位置，一维检测器(10)的感光面位于汇聚二次X射线(42)的焦点处，在交叉位置，感光狭缝(9)设置于汇聚二次X射线(42)的焦点处，一维检测器(10)的感光面位于感光狭缝(9)的与分光元件(6)离开的汇聚二次X射线(42)的行进方向侧。

相关申请

本申请要求申请日为2016年9月30日，申请号为JP特愿2016－194356的申请的优先权，通过参照，将其整体作为构成本申请的一部分的内容而引用。

技术领域

本发明涉及具有汇聚光学系统的波长色散型荧光X射线分析装置。

背景技术

在荧光X射线分析中，为了以良好的精度测定在试样中包含的微量元素，必须要求正确地对从照射了一次X射线的试样而产生的荧光X射线的本底进行补偿。由此，在具有汇聚光学系统的波长色散型荧光X射线分析装置中，具有下述的装置，其中，设置感光狭缝，该感光狭缝具有通过单一分光元件而进行分光，在单一检测器之前邻接而设置的多个开口，切换使二次X射线通过的开口，对来自试样的荧光X射线的本底进行补偿(专利文献1)。由于该汇聚光学系统用作固定光学系统，故通常，其用于单元素用的荧光X射线分析装置，或多元素同步型荧光X射线分析装置。

在几乎全部的场合，像以示意方式表示荧光X射线波谱PS和本底波谱BS的图12那样，在荧光X射线的波谱PS的某峰值区域PA和峰值接近区域BA，本底波谱BS近似线性地变化。一般，在扫描型荧光X射线分析装置中，通过在峰值接近区域，移动测角器，测定本底强度，视为可在峰值区域和峰值接近区域以相同程度的灵敏度测定本底强度，从峰值测定强度中扣除本底测定强度，求出净强度。

另一方面，像在专利文献1中记载的那样，在固定有分光元件和检测器的汇聚光学系统的波长色散型荧光X射线分析装置中，设置感光狭缝，该感光狭缝具有在单一的检测器之前邻接而设置的多个开口，将使二次X射线通过的开口切换到峰值接近区域，测定本底强度，但是由于其灵敏度低于峰值区域，故经测定其强度低于实际上产生的本底强度。由此，仅仅通过从峰值测定强度中单纯地扣除峰值接近区域的本底测定强度，无法求出正确的净强度。

于是，在具有汇聚光学系统的波长色散型荧光X射线分析装置中，还具有下述的装置，其中，设置多个分光元件，与选择射入单一检测器中的二次X射线的光路的机构，切换所采用的分光元件，通过视为相同程度的灵敏度，测定峰值强度和本底强度，对来自试样的荧光X射线的本底进行补偿。另外，还具有下述的装置，其中，代替上述装置的光路选择机构，而检测器采用位置敏感型检测器，同时地在短时间内测定峰值强度和本底强度(专利文献2)。

另外，在荧光X射线分析的主成分分析中，由于必须要求高的测定精度，故必须要求以高计数率而测定测定对象元素。但是，在过去的检测器(比例计数管、闪烁计数器等)中，获得计数线性的计数上限在1000～4000kcps的范围内。由此，装备衰减器交换机构，当比如在金属中分析主成分元件的X射线强度超过计数上限的试样时，采用衰减器，使荧光X射线强度降低到计数上限以下。或者，还具有装备在最大占比的试样中，不超过计数上限的方式进行强度衰减的固定衰减器的情况，但是在该场合，即使在低占比试样的情况下，强度仍衰减。也具有代替采用衰减器，而降低供给X射线管的管电压或管电流，对其进行测定的情况(比如，专利文献3的第0002段)。

现有技术文献

专利文献1：JP特开平8－128975号公报

专利文献2：WO2004－086018号公开

专利文献3：JP特开2012－159404号公报