[发明专利]密封条和其使用方法有效

专利信息
申请号: 201780057271.2 申请日: 2017-09-25
公开(公告)号: CN109789643B 公开(公告)日: 2021-07-06
发明(设计)人: 马良凯;S·L·克拉布特里;J·C·戈梅斯;M·H·米尔戈贡;M·S·布莱克;M·O·拉博内维尔;M·J·特平;M·J·希思;C·M·塞勒;L·A·万舒姆雷恩;N·C·马佐拉 申请(专利权)人: 陶氏环球技术有限责任公司
主分类号: B29C65/18 分类号: B29C65/18;B29C65/04;B29C65/08;B29C65/72;B29K23/00;B29K96/04
代理公司: 北京坤瑞律师事务所 11494 代理人: 封新琴
地址: 美国密*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 密封条 使用方法
【权利要求书】:

1.一种密封条,其包含:

基底构件,其具有平坦前表面和在所述前表面后方距离(d)处的平坦凹面,所述前表面界定x轴(X);

所述平坦凹面具有第一端点(A1),其中在所述第一端点(A1)处垂直于所述平坦凹面的轴线界定第一y轴(Y1);

凹表面,其延伸在所述第一端点(A1)与位于所述平坦前表面上的点(B1)之间,所述凹表面在所述第一端点(A1)与所述点(B1)之间界定椭圆形的扇形弧段;

其中所述凹表面界定椭圆形的扇形弧段,所述椭圆形由等式(1)界定

等式(1)

其中

所述椭圆形的中心(C1)为所述x轴(X)与所述第一y轴(Y1)的相交点;

d为0.3mm到2.0mm;

x1为长度为0.1mm到12.0mm的椭圆形半长轴;

y1为具有所述长度(d)的椭圆形半短轴;并且

R1为所述半长轴(x1)除以所述半短轴(y1)的比并且R1为0.6到3.0。

2.根据权利要求第1项所述的密封条,其中所述平坦凹面在与所述第一端点(A1)相对的端部上包含第二端点(A2);

在所述第二端点(A2)处垂直于所述平坦凹面的轴线界定第二y轴(Y2);

第二凹表面,其延伸在所述第二端点(A2)与位于所述平坦前表面上的点(B2)之间,所述第二凹表面在所述第二端点(A2)与所述点(B2)之间界定第二椭圆形的第二扇形弧段。

3.根据权利要求第2项所述的密封条,其中所述第二凹表面界定所述第二椭圆形的第二扇形弧段,所述第二椭圆形由等式(2)界定

等式(2)

其中

所述第二椭圆形的中心(C2)为所述x轴(X)与所述第二y轴(Y2)的相交点;

d为0.3mm到2.0mm;

x2为长度为0.1mm到12.0mm的第二椭圆形半长轴;

y2为具有所述长度(d)的第二椭圆形半短轴;并且

R2为所述半长轴(x2)除以所述半短轴(y2)的比并且R2为0.6到3.0。

4.根据权利要求第3项所述的密封条,其中所述凹面的长度为14.0mm到20.0mm。

5.一种密封条装置,其包含

第一密封条,其为根据权利要求第3项所述的密封条;

第二密封条,其为根据权利要求第3项所述的密封条;

所述第一密封条与所述第二密封条彼此对置;并且

所述第一密封条的所述平坦前表面朝向所述第二密封条的所述平坦前表面。

6.根据权利要求书第5项所述的密封条装置,其包含

具有基底的配件;

所述配件位于两个对置的多层膜之间并形成膜/基底/膜夹层结构;并且

所述膜/基底/膜夹层结构位于所述第一密封条与所述第二密封条之间。

7.一种通过使用密封条装置密封膜的方法,其包含:

A.提供根据权利要求第5项所述的密封条装置;

B.提供具有基底的配件,所述基底包含乙烯/α-烯烃多嵌段共聚物;

C.将所述基底放置于两个对置的多层膜之间,各多层膜具有包含烯烃类聚合物的对应密封层,并且形成膜/基底/膜夹层结构;

D.将所述膜/基底/膜夹层结构定位于对置的根据权利要求第5项所述的第一密封条与第二密封条之间;以及

E.用对置的经加热密封条将所述基底密封到各多层膜。

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