[发明专利]发热系统有效
| 申请号: | 201780057187.0 | 申请日: | 2017-09-25 |
| 公开(公告)号: | CN109716040B | 公开(公告)日: | 2021-02-05 |
| 发明(设计)人: | 岩村康弘;伊藤岳彦;笠木治郎太;吉野英树;服部真尚 | 申请(专利权)人: | 绿净星球股份有限公司 |
| 主分类号: | F24V30/00 | 分类号: | F24V30/00;C01B3/00;C01B4/00;F17C11/00 |
| 代理公司: | 北京海智友知识产权代理事务所(普通合伙) 11455 | 代理人: | 吴京顺 |
| 地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 发热 系统 | ||
1.一种发热系统,其特征在于,包括:
发热体单元,其包括容器和反应体,所述反应体设置在所述容器内部,并且由吸氢金属或吸氢合金制成,在所述反应体的表面形成有多个金属纳米颗粒,通过将有助于发热的氢系气体被供应到所述容器内部,由此氢原子吸藏在所述金属纳米颗粒中而产生过剩热;
循环装置,用于使所述发热体单元内的所述氢系气体循环,所述循环装置包括:循环通道,设置在所述容器外部,连接从所述容器的回收口到所述容器的排出口;泵,用于使所述容器内部的所述氢系气体经由所述循环通道循环;以及过滤器,设置在所述循环通道的中途,用于吸附所述氢系气体中的杂质而去除;以及
喷嘴部,设置在所述排出口与卷绕型反应体之间,将通过所述过滤器的去除杂质后的所述氢系气体供应到所述卷绕型反应体的表面。
2.根据权利要求1所述的发热系统,其特征在于,
所述喷嘴部将所述去除杂质后的所述氢系气体供应到所述卷绕型反应体的整个表面上。
3.根据权利要求2所述的发热系统,其特征在于,
所述喷嘴部具有在所述卷绕型反应体的表面的面方向上排列的多个喷射部,
从所述多个喷射部将所述去除杂质后的所述氢系气体供应到所述卷绕型反应体的整个表面上。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的发热系统,其特征在于,
所述循环装置具有用于控制所述氢系气体的循环流量的流量控制部。
5.根据权利要求4所述的发热系统,其特征在于,包括:
温度测量部,设置在所述容器内部,
所述流量控制部根据所述温度测量部的测量温度控制所述氢系气体的循环流量,从而进行所述过剩热的输出调节和所述容器内部的温度调节。
6.一种发热系统,其特征在于,包括:
发热体单元,其包括容器和反应体,所述反应体设置在所述容器内部,并且由吸氢金属或吸氢合金制成,在所述反应体的表面形成有多个金属纳米颗粒,通过将有助于发热的氢系气体被供应到所述容器内部,由此氢原子吸藏在所述金属纳米颗粒中而产生过剩热;
循环装置,用于使所述发热体单元内的所述氢系气体循环;以及
分析部,用于分析所述容器内部的所述氢系气体,
所述循环装置包括:
循环通道,设置在所述容器外部,连接从所述容器的回收口到所述容器的排出口;
泵,用于使所述容器内部的所述氢系气体经由所述循环通道循环;
过滤器,设置在所述循环通道的中途,用于吸附所述氢系气体中的杂质而去除;
流量控制部,根据所述分析部的分析结果控制所述氢系气体的循环流量,从而进行所述过剩热的输出调节和所述容器内部的温度调节。
7.根据权利要求6所述的发热系统,其特征在于,包括:
加热器,用于加热所述反应体;以及
加热电源,根据所述分析部的分析结果控制所述加热器的加热温度。
8.根据权利要求1或6所述的发热系统,其特征在于,
在所述循环通道中设置有用于从通过所述过剩热被加热的所述氢系气体中回收热的热回收装置。
9.根据权利要求1或6所述的发热系统,其特征在于,所述过滤器至少吸附作为所述杂质的水、烃、C、S及Si。
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