[发明专利]中空颗粒及其用途在审
申请号: | 201780056734.3 | 申请日: | 2017-08-30 |
公开(公告)号: | CN109715694A | 公开(公告)日: | 2019-05-03 |
发明(设计)人: | 片山悠吾;齐藤刚;松浦春彦;小谷笃史;野田百夏 | 申请(专利权)人: | 积水化成品工业株式会社 |
主分类号: | C08G59/32 | 分类号: | C08G59/32;C08F2/26;C08F8/00;C08F20/32;C09D201/00 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 中空颗粒 乙烯基系树脂 磷原子 硫原子 | ||
提供一种中空颗粒,其各自具有包含至少一个以上的层的壳,其中所述至少一个以上的层包含乙烯基系树脂并且包含磷原子和/或硫原子。
技术领域
本发明涉及中空颗粒及其用途。本发明的中空颗粒可以提供在有机溶剂或固化性树脂中具有高的分散性、并且通过将包含上述中空颗粒的固化性树脂组合物固化而具有耐擦伤性的固化物。
背景技术
在内部具有空隙的颗粒通过在空隙中引入各种物质用作微胶囊颗粒。此外,这些在内部具有空隙的颗粒也称为中空颗粒,并且用作光散射材料、低反射材料或隔热材料等。通过将这些材料添加至热固性或热塑性树脂中、接着成形为板状来将这些材料用作光散射膜、低反射膜或隔热膜等。
然而,存在如下问题:当将中空颗粒添加至热固性或热塑性树脂中并且成形时,成形物的机械强度、特别是表面的耐擦伤性降低。在日本专利特开2010-084017号公报(专利文献1)和日本专利特开2010-084018号公报(专利文献2)中提出了解决该问题的技术。在这些专利文献中,记载了用烷氧基硅烷表面处理、并且用具有自由基聚合性基团的硅烷偶联剂进一步表面处理的中空颗粒。
专利文献1:日本专利特开2010-084017号公报
专利文献2:日本专利特开2010-084018号公报
发明内容
然而,即使在上述专利文献的中空颗粒的情况下,由于在有机溶剂或固化性树脂中的分散性是低的、或者反应性基团的引入量是不足的,因此不能获得具有充分的耐擦伤性的成形物。
因此,本发明提供一种中空颗粒,其具有包括至少一个以上的层的壳,其中所述至少一个以上的层包含乙烯基系树脂,并且包含磷原子和/或硫原子。
此外,本发明提供一种分散液,其包含所述中空颗粒。
此外,本发明提供一种涂布剂,其包含所述中空颗粒。
此外,本发明提供一种隔热膜,其包含所述中空颗粒。
此外,本发明提供一种层压体,其至少具有基材、和包含所述中空颗粒的固化树脂层,其中当对所述固化树脂层进行JIS K5600-5-1:1999中记载的弯曲试验(圆筒形芯棒法)时,所述固化树脂层具有耐弯曲性以使所述固化树脂层在芯棒直径为8mm以下处开始开裂。
本发明可以提供适合于制备具有充分的耐擦伤性的成形物的中空颗粒。
当本发明具有任意以下方面时,本发明可以提供适合于制备具有更充分的耐擦伤性的成形物的中空颗粒。
(1)通过荧光X-射线分析,磷原子或硫原子显示含量为0.2~5.00质量%。
(2)当由通过借助ATR-FTIR测量中空颗粒而获得的红外吸收光谱计算在810cm-1处的吸光度(A810)与在1720cm-1处的吸光度(A1720)之间的比α(吸光度比α:A810/A1720)时,中空颗粒显示吸光度比α为0.015~0.50。
(3)乙烯基系树脂为包含硅组分的有机-无机杂化乙烯基系树脂。
(4)中空颗粒的平均粒径为10~150nm。
(5)中空颗粒具有用由以下通式(I)表示的硅烷系偶联剂处理的表面:
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