[发明专利]具有被耦合的退化电阻和电容的可变增益放大器在审

专利信息
申请号: 201780056692.3 申请日: 2017-08-21
公开(公告)号: CN109845097A 公开(公告)日: 2019-06-04
发明(设计)人: 袁晓彬;J·L·达勒;M·普拉萨德;J·纳托尼奥 申请(专利权)人: 高通股份有限公司
主分类号: H03F3/45 分类号: H03F3/45
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华;郭星
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 输入晶体管 源极 可变电阻器 放大器 可变电容器 耦合 电容 电阻 可变增益放大器 操作放大器 低频增益 退化电阻 耦合的
【权利要求书】:

1.一种用于补偿信号衰减的系统,包括:

放大器,包括:

第一输入晶体管;

第一负载,被耦合在所述第一输入晶体管的漏极与电源电压之间;

第二输入晶体管;

第二负载,被耦合在所述第二输入晶体管的漏极与所述电源电压之间;

可变电阻器,被耦合在所述第一输入晶体管的源极与所述第二输入晶体管的源极之间;以及

可变电容器,被耦合在所述第一输入晶体管的所述源极与所述第二输入晶体管的所述源极之间;以及

控制器,被配置为调节所述可变电阻器的电阻以调节针对低于所述放大器的零位置的频率的所述放大器的低频增益,并且在与对所述可变电阻器的所述电阻的所述调节的相反的方向上调节所述可变电容器的电容,使得如果所述可变电阻器的所述电阻被增加,则所述可变电容器的所述电容被减小,以及如果所述可变电阻器的所述电阻被减小,则所述可变电容器的所述电容被增加,以便减小所述可变电阻器的电阻值R和所述可变电容器的电容值C的RC乘积的变化。

2.根据权利要求1所述的系统,其中所述可变电阻器包括场效应晶体管FET电阻器,并且所述控制器被配置为通过调节被施加到所述FET电阻器的栅极的第一控制电压来调节所述可变电阻器的所述电阻。

3.根据权利要求2所述的系统,其中所述可变电容器包括一个或多个基于电压的电容器,并且所述控制器被配置为通过调节被施加到所述一个或多个基于电压的电容器的第二控制电压来调节所述可变电容器的所述电容。

4.根据权利要求3所述的系统,其中所述控制器被配置为在相同的方向上调节所述第一控制电压和所述第二控制电压。

5.根据权利要求4所述的系统,其中所述控制器被配置为:

如果所述第一控制电压被增加,则增加所述第二控制电压,以及

如果所述第一控制电压被减小,则减小所述第二控制电压。

6.根据权利要求3所述的系统,其中所述控制器包括:

低频增益选择器,被配置为输出指示多个不同频率增益设置中的所选择的频率增益设置的选择信号;

第一数模转换器DAC,被配置为接收所述选择信号,并且根据所述多个不同的低频增益设置中的所选择的低频增益设置来设置所述第一控制电压的电压电平;以及

第二DAC,被配置为接收所述选择信号,并且根据所述多个不同的低频增益设置中的所选择的低频增益设置来设置所述第二控制电压的电压电平。

7.根据权利要求6所述的系统,其中所述第一控制电压被输入到所述第二DAC以为所述第二DAC供电。

8.根据权利要求3所述的系统,其中所述一个或多个基于电压的电容器中的每个基于电压的电容器包括FET,所述FET具有被配置为接收所述第二控制电压的栅极、以及源极和漏极,所述源极和漏极被绑定在一起、并且被耦合到所述第一输入晶体管和所述第二输入晶体管中的一个输入晶体管的所述源极。

9.根据权利要求2所述的系统,其中所述可变电容器包括一个或多个基于电压的电容器,并且所述第一控制电压也被施加到所述一个或多个基于电压的电容器以调节所述可变电容器的电容。

10.根据权利要求9所述的系统,其中所述一个或多个基于电压的电容器中的每个基于电压的电容器包括FET,所述FET具有被配置为接收所述第一控制电压的栅极、以及源极和漏极,所述源极和漏极被绑定在一起、并且被耦合到所述第一输入晶体管和所述第二输入晶体管中的一个输入晶体管的所述源极。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于高通股份有限公司,未经高通股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780056692.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top