[发明专利]光学设备用遮光部件

说明书

本发明提供一种简单制程即可制造的、具有优异的反射防止性能、能够应用于小型化、薄型化的光学设备之光学设备用遮光部件；所述光学设备用遮光部件表面，基于JIS B0601:2001测出的轮廓算数平均偏差Ra为0.5微米以上、且使最大峰高度Rp与最大谷深度Rv之差(Rp‑Rv)小于3；光学设备用遮光部件优选为具有基材膜以及形成于所述基材膜的至少一方的面上之遮光层。另外，所述遮光层的平均膜厚为2微米至35微米。

技术领域

本发明涉及一种光学设备用遮光部件，特别涉及应用于照相机、投影仪以及摄像机、复印机、光泽度计等光学物性检测机等的光学设备的内壁面、柔性印刷电路板、快门、虹膜(光圈)、垫片等的遮光部件。

背景技术

以往在各种光学设备内壁以及柔性印刷电路板等上面设置具有防止反射性能的遮光部件(专利文献1)。另外，在照相机、投影仪、摄像机等光学器械的羽根材料(构成快门的材料)或者垫圈等，也使用遮旋光性膜(专利文献2)。

现有先前技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利公开特开平10-268105

专利文献2：日本专利公开特开平4-9802

专利文献3：日本专利公开特开2008-225099

发明内容

发明要解决的课题

通常在上述遮旋光性膜等表面上添加消光剂，设置使表面粗糙化的遮光层。为提高遮旋光性膜的遮旋光性能，在遮光层以及在基材膜与遮光层之间，设置的厚膜化的固定层是有效的方法。

然而，近年来光学设备的小型化、薄型化发展，需要既薄又具有优异遮旋光性能，且具有良好硬度以及遮光层与基材膜之间的紧贴性良好的遮光膜。针对这类问题，专利文献3公开了一种遮光膜，其具备基材膜(基材)和配设于上述基材其中之一的面上的遮光层，上述基材是含有白色颜料或者在表面以及内部具有微细独立气泡的，光反射率达到80％以上的合成树脂膜，上述遮光层含有黏结剂树脂、黑色颜料以及填料，且其厚度为15微米以下，上述遮光层在其厚度方向上，与上述基材相接的面的附近范围的黑色颜料的浓度，比与上述基材不相接的面(表面)附近范围的黑色颜料的浓度高，整体厚度在60微米以下。且记载了上述遮光膜，即使是薄膜，也具有优异的遮光特性。具体地，公开了相对于60°的入射角的入射光的光泽度为6％以下的遮光膜。

但在专利文献3中，由于厚度方向的黑色颜料的浓度变化，所以需要经过设置2层以上的遮光层等复杂制备过程。另外，近年来，由于光源小型化，光量上升等高性能化，因而需要更优异的防止反射性能(遮光特性)。

因此本发明的目的在于提供一种简单制备过程即可制造，具有优异的防止反射性能，可以应用于小型化、薄型化的光学设备的光学设备用遮光部件。

解决课题的手段

本发明的发明人经过锐意研究，结果发现通过控制具有特定表面粗糙度的遮光部件表面的最大峰高度(the maximum profile peak height)Rp与最大谷深度(the maximumprofile valley depth)Rv的差，就可以解决上述课题，并完成了本发明。即，本发明的遮光部件之特征在于，基于JIS B0601：2001测出的表面轮廓算数平均偏差(the arithmeticalmean deviation of the assessed profile)Ra为0.5微米以上，且最大峰高度(themaximum profile peak height)Rp与最大谷深度(the maximum profile valley depth)Rv之差(Rp-Rv)小于3。

本发明的遮光部件的表面硬度优选为在H以上。

另外，本发明的遮光部件，优选为具有基材膜以及形成于所述基材膜的至少其中之一的面上的遮光层。