[发明专利]基板处理装置及基板处理方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，对基板进行处理，其中，

所述基板处理装置具有：

腔室，具有腔室主体及腔室盖部，通过利用所述腔室盖部封闭所述腔室主体的上部开口，形成包括所述腔室主体及所述腔室盖部的腔室密闭结构；

腔室开闭机构，使所述腔室盖部相对于所述腔室主体沿着上下方向相对地移动；

基板保持部，配置于所述腔室内，将基板保持为水平状态；

基板旋转机构，以朝向所述上下方向的中心轴为中心，使所述基板与所述基板保持部一起旋转；

处理液供给部，向所述基板上供给处理液；

第一杯部，整周地位于通过所述腔室盖部从所述腔室主体离开而在所述基板的周围所形成的环状开口的径向外侧，以接收从旋转的所述基板飞散的处理液；

杯部移动机构，使所述第一杯部在所述环状开口的径向外侧的第一位置与比所述第一位置更靠下方的第二位置之间沿着所述上下方向移动；以及

第二杯部，配置于所述第一杯部的上侧，在所述第一杯部位于所述第二位置的状态下整周地位于所述环状开口的径向外侧，以接收从旋转的所述基板飞散的处理液，

所述第二杯部通过所述腔室开闭机构或所述杯部移动机构沿着所述上下方向移动，

在形成有所述环状开口的状态下，通过位于所述第一位置的所述第一杯部与所述腔室盖部及所述腔室主体接触，形成包括所述腔室盖部、所述腔室主体及所述第一杯部的第一外部密闭结构，

在形成有所述环状开口的状态下，通过所述第二杯部与所述腔室盖部及位于所述第二位置的所述第一杯部接触，形成包括所述腔室盖部、所述腔室主体、所述第一杯部及所述第二杯部的第二外部密闭结构。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其中，

所述第二杯部的内周缘部与所述腔室盖部的外周缘部沿着上下方向重叠，

在所述腔室盖部封闭所述腔室主体的所述上部开口的状态下，所述第二杯部由所述第一杯部支撑，所述第二杯部的所述内周缘部朝上方离开所述腔室盖部的所述外周缘部，

在所述腔室盖部通过所述腔室开闭机构而朝离开所述腔室主体的方向相对地移动时，所述第二杯部的所述内周缘部由所述腔室盖部的所述外周缘部支撑，所述第二杯部与所述腔室盖部一起相对于所述腔室主体相对地移动。

3.如权利要求2所述的基板处理装置，其中，

所述第一杯部在与所述第二杯部接触的位置具有杯密封部，该杯密封部在所述第一杯部与所述第二杯部之间整周地形成密封。

4.如权利要求1至3中任一项所述的基板处理装置，其中，

所述第二杯部的外径在所述第一杯部的外径以下。