[发明专利]偏振板及其制造方法有效
申请号: | 201780054035.5 | 申请日: | 2017-09-01 |
公开(公告)号: | CN109661601B | 公开(公告)日: | 2022-02-01 |
发明(设计)人: | 阪上智惠;古川达也;中川弘也 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;C09J5/06;C09J11/06;C09J163/00;C09J201/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 朱丹 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 偏振 及其 制造 方法 | ||
1.一种偏振板,其包含偏振片和在所述偏振片的至少一个面上经由粘接剂层而层叠的保护膜,所述粘接剂层是包含阳离子聚合性化合物、第一产酸剂及第二产酸剂的粘接剂的固化物,
所述第一产酸剂是固化温度不足120℃的离子性化合物,并且是下述式(3)所示的离子性化合物,
式(3)中,R11及R12相互独立地表示烷基、芳烷基、芳基或芳香族杂环基,R13表示任选具有取代基的苯基,X-为下述式(1)所示的阴离子或下述式(2)所示的阴离子,
式(1)中,R1为任选具有取代基的C6-14芳基或任选具有取代基的C3-14芳香族杂环基,R2~R4相互独立地为C1-18烷基、任选具有取代基的C6-14芳基或任选具有取代基的C3-14芳香族杂环基,所述取代基为C1-18烷基、卤代C1-8烷基、C2-18烯基、C2-18炔基、C6-14芳基、C3-14芳香族杂环基、硝基、羟基、氰基、-OR5所示的烷氧基或芳氧基、R6CO-所示的酰基、R7COO-所示的酰氧基、-SR8所示的烷硫基或芳硫基、-NR9R10所示的氨基、或者卤素原子,所述R5~R8为C1-8烷基、C6-14芳基或C3-14芳香族杂环基,所述R9及R10为氢原子、C1-8烷基、C6-14芳基或C3-14芳香族杂环基,
式(2)中,Rf表示氢的80%以上被氟原子取代后的、相同或不同的烷基,a为1~5的整数,
所述第二产酸剂是固化温度为120℃以上且利用活性能量射线产生酸的离子性化合物,
第二产酸剂是下述式(4)所示的离子性化合物,
式(4)中,R14及R15相互独立地表示烷基、芳烷基、芳基或芳香族杂环基,R16表示任选具有取代基的苯基,Y-为所述式(1)或所述式(2)所示的阴离子、或者PF6-。
2.根据权利要求1所述的偏振板,其中,所述粘接剂层是通过对所述粘接剂照射活性能量射线后进行加热而固化的粘接剂层。
3.根据权利要求1或2所述的偏振板,其中,阳离子聚合性化合物包含选自环氧化合物、氧杂环丁烷化合物及乙烯基化合物中的至少1种化合物。
4.根据权利要求1或2所述的偏振板,其中,保护膜包含选自纤维素系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、聚烯烃系树脂、聚酯系树脂及聚碳酸酯系树脂中的至少1种树脂。
5.一种权利要求1~4中任一项所述的偏振板的制造方法,其包括:
(a)在偏振片和/或保护膜上涂布粘接剂的工序;
(b)将偏振片与保护膜进行层叠的工序;
(c)对工序(b)中所得的层叠体照射活性能量射线的工序;以及
(d)接下来加热层叠体的工序。
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