[发明专利]用于采集暗场图像的体模设备、暗场成像系统和方法

权利要求书

1.一种用于暗场成像系统(12)的体模设备(10)，所述体模设备包括：

主体(34)，

参考部分，其由衰减部分(42)和堆叠在所述衰减部分上的去相干部分(44)形成，使得相应参考部分的所述衰减部分和所述去相干部分沿所述主体的预定方向相继布置；

其中，每个去相干部分被配置为在X射线束沿着所述预定方向通过相应的去相干部分的情况下引起对所述X射线束的去相干扰动；

其中，每个衰减部分被配置为在X射线束沿着所述预定方向通过相应的衰减部分的情况下引起对所述X射线束的衰减扰动；

其中，所述主体包括第一组(36)的至少两个参考部分(38)；

其中，所述第一组中的所述去相干部分中的每个被配置为引起相同的第一程度的去相干扰动；并且

其中，所述第一组中的所述衰减部分被配置为引起相互不同程度的衰减扰动。

2.根据权利要求1所述的体模设备，

其中，所述主体包括第二组(40)的至少两个参考部分；

其中，所述第二组中的所述去相干部分中的每个被配置为引起相同的第二程度的去相干扰动；

其中，所述第二组中的所述衰减部分被配置为引起相互不同程度的衰减扰动；并且

其中，所述第一组中的所述去相干部分和所述第二组中的所述去相干部分被配置使得所述第一程度的去相干扰动不同于所述第二程度的去相干扰动。

3.根据权利要求1所述的体模设备，其中，每个组包括至少三个参考部分。

4.根据权利要求1所述的体模设备，其中，每个参考部分在垂直于所述预定方向的平面中包括恒定的横截面。

5.根据权利要求1所述的体模设备，其中，每个去相干部分包括微结构(56)，所述微结构被配置为在X射线束沿所述预定方向通过相应的去相干部分的情况下引起对所述X射线束的小角度X射线散射。

6.根据权利要求1所述的体模设备，其中，每个去相干部分的微结构由集成在相应的去相干部分的树脂(60)中的多个微球(58)形成。

7.根据权利要求2所述的体模设备，其中，每个去相干部分的微结构由集成在相应的去相干部分的树脂(60)中的多个微球(58)形成。

8.根据权利要求7所述的体模设备，其中，所述第一组中的所述微球各自由第一材料形成和/或填充有第一材料，其中，所述第二组中的所述微球各自由第二材料形成和/或填充有第二材料，并且其中，所述第一材料与所述第二材料不同。

9.根据权利要求6所述的体模设备，其中，所述微球中的每个的尺寸在10μm与300μm之间。

10.根据权利要求6所述的体模设备，其中，相同组中的所述微球均具有相同的尺寸。

11.根据权利要求7所述的体模设备，其中，所述第一组中的微球和所述第二组中的微球具有不同的尺寸。

12.根据权利要求1-11中的任一项所述的体模设备，其中，所述参考部件被集成在所述主体的浇注混合物(46)中并且被所述浇注混合物包围。