[发明专利]沉积装置和用于沉积的方法

权利要求书

1.一种用于在衬底(ST)的衬底表面(ST1)上沉积物质(SB)的沉积装置(1)，该沉积装置包括沉积源(20)和布置在所述沉积源(20)与所述沉积表面之间的沉积掩模(30)，该沉积掩模(30)具有面向所述沉积源的第一掩模表面(38)和面向所述衬底表面(ST1)的第二掩模表面(39)，其中，所述沉积掩模(30)具有由至少一个封闭区域(34)和至少一个穿孔区域(36)限定的空间图案，该至少一个穿孔区域由多个通孔(37)限定，并且其中，提供了衬底载体(10、70、72)，以使所述衬底的所述衬底表面(ST1)与所述第二掩模表面(39)相距一距离(D)的方式承载所述衬底，使得在所述沉积装置的操作中，根据与所述沉积掩模的由所述至少一个封闭区域和所述至少一个穿孔区域限定的所述空间图案相对应的空间图案来沉积所述物质，其中，所述至少一个封闭区域对应于第一衬底表面上的与所述沉积掩模的所述至少一个封闭区域同构的至少第一区域，并且所述至少一个穿孔区域对应于所述第一衬底表面上的与所述沉积掩模的所述至少一个穿孔区域同构的至少第二区域，其中所述至少第二区域中的沉积层基本上是均匀的。

2.根据权利要求1所述的沉积装置，包括用于沿着所述衬底载体(10、70、72)传送所述衬底(ST)的衬底传送设施(42、48、52、54)。

3.根据权利要求2所述的沉积装置，其中，所述沉积掩模(30)具有曲线形状，并且其中，所述衬底载体(10)以使所述衬底的衬底表面(ST1)与所述第二掩模表面(39)共形的方式承载所述衬底(ST)。

4.根据权利要求3所述的沉积装置，其中，所述沉积掩模(30)设置为圆柱体，并且其中，所述沉积源(20)设置在所述圆柱体的内部。

5.根据权利要求4所述的沉积装置，其中，所述沉积装置包括用于以一角速度旋转所述圆柱体的致动器(56)，并且其中，所述传送设施(42、48、52、54)布置成以所述衬底的衬底表面(ST1)相对于所述第二掩模表面(39)至少基本同轴的方式沿着圆柱形轨迹传送所述衬底(ST)，其中，当沿着所述圆柱形轨迹传送所述衬底时，所述衬底沿着所述沉积表面以相同的角速度移动。

6.根据权利要求3至5中任一项所述的沉积装置，其中，所述衬底载体由布置在所述沉积掩模的相应横向侧的一对支撑辊(70、72)形成，所述支撑辊的外直径大于所述沉积掩模的外直径。

7.根据权利要求6所述的沉积装置，其中，所述衬底载体还包括一个、两个或更多个互补支撑辊(70a、…、70n)，所述衬底(ST)在其一个横向侧上在所述支撑辊(70)与相关联的互补支撑辊(70a、…、70n)之间受引导。

8.根据权利要求7所述的沉积装置，其中，所述一个、两个或更多个互补支撑辊(70a、…、70n)中的至少一个朝向所述支撑辊(70)对所述衬底(ST)施加压力。

9.根据权利要求7或8所述的沉积装置，其中，每个支撑辊(70；72)具有各自一组的一个、两个或更多个互补支撑辊(70a、…、70n；72a、…、72n)。

10.根据权利要求7或8所述的沉积装置，其中，所述支撑辊(70；72)共用一组的一个、两个或更多个互补支撑辊(70a、…、70n)。

11.根据前述权利要求中任一项所述的沉积装置，其中，所述衬底载体还包括互补支撑带(70a、…、70n)，所述衬底(ST)在其一个横向侧上在所述支撑辊(70、72)和相关联的互补支撑带(76、77)之间受引导。

12.根据权利要求11所述的沉积装置，其中，所述互补支撑带(76、77)朝向所述支撑辊(70、72)对所述衬底(ST)施加压力。