[发明专利]在成像系统中控制透镜失准

权利要求书

1.一种用于成像的方法，包括：

使用成像系统对场景成像，所述成像系统包括辐射感测元件的阵列和被配置为将来自所述场景的辐射聚焦到所述阵列上的光学器件，所述辐射感测元件的阵列包括具有对称角响应的第一感测元件和散布于所述第一感测元件之中、具有非对称角响应的第二感测元件；

处理由所述第一感测元件输出的第一信号，以便识别所述阵列上均匀辐照度的一个或多个区域；以及

处理由位于所识别区域中的所述第二感测元件输出的第二信号，以便监测所述光学器件相对于所述阵列的横向偏移，

其中所述第二感测元件包括具有不同相应非对称角度的不同组的第二感测元件，并且其中监测所述横向偏移包括比较所述不同组输出的第二信号，以便评估所述横向偏移的方向。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述第二感测元件包括：

光敏区，所述光敏区形成于衬底中；

微镜头，所述微镜头设置于所述光敏区上方；和

不透明屏蔽件，所述不透明屏蔽件置于所述衬底和所述微镜头之间、部分地覆盖所述光敏区。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述第二感测元件包括：

至少一个光敏区，所述至少一个光敏区形成于衬底中；和

微镜头，所述微镜头设置于光敏区上方，

其中所述至少一个光敏区相对于通过所述微镜头指向所述感测元件的主光线是偏移的。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中处理所述第二信号包括监测所述光学器件相对于所述阵列的倾斜度。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中处理所述第二信号包括评估所述光学器件的主光线与所述阵列相交的角度。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中处理所述第二信号包括基于所述第二信号校准所述成像系统的对准。

7.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中处理所述第二信号包括基于所述第二信号验证所述成像系统已被组装到预先确定的公差之内。

8.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中监测所述横向偏移包括：

通过使所述第二信号相对于所述所识别区域中的所述第一感测元件输出的所述第一信号规格化来计算所述所识别区域中的所述第二感测元件的增益；

评估所计算增益与所存储增益的偏差；以及

基于所述偏差来估计所述横向偏移。

9.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中处理所述第二信号包括：

存储针对多个类型的失准的相应增益图；

通过使所述第二信号相对于所述所识别区域中的所述第一感测元件输出的所述第一信号规格化来计算所述所识别区域中的所述第二感测元件的增益；以及

将所计算的增益与所存储的增益图进行比较，以便识别所述失准的类型和量值。

10.一种成像系统，包括：

辐射感测元件的阵列，包括：

具有对称角响应的第一感测元件，所述第一感测元件被配置为输出第一信号；和

具有非对称角响应的第二感测元件，所述第二感测元件散布于所述第一感测元件之中并被配置为输出第二信号；

光学器件，所述光学器件被配置为将来自场景的辐射聚焦到所述阵列上；和

控制电路，所述控制电路被耦接到所述阵列并被配置为处理所述第一信号，以便识别所述阵列上均匀辐照度的一个或多个区域，并处理位于所识别区域中的所述第二感测元件输出的第二信号，以便检测所述光学器件与所述阵列的失准，

其中由所述控制电路检测的所述失准包括所述光学器件相对于所述阵列的横向偏移，并且

其中所述第二感测元件包括具有不同相应非对称角度的不同组的第二感测元件，并且

其中所述控制电路被配置为比较由所述不同组输出的第二信号，以便评估所述横向偏移的方向。