[发明专利]用于溅射源的脉冲形状控制器

权利要求书

1.一种脉冲控制系统，包含：

功率源；

系统控制器；和

脉冲形状控制器，所述脉冲形状控制器耦接至所述功率源，且与所述系统控制器连通，所述脉冲形状控制器包含：

第一切换组件，所述第一切换组件具有第一切换器，所述第一切换器具有耦接的第一端和第二端，所述第一切换器可配置于断开状态与导通状态之间；和

第二切换组件，所述第二切换组件具有第二切换器，所述第二切换器具有第一端和第二端，所述第二切换器可配置于所述断开状态与所述导通状态之间，其中所述第一切换器在所述导通状态中且所述第二切换器在所述断开状态中，且其中在所述导通状态中的所述第一切换器配置成允许将由所述功率源所供应的脉冲传送通过所述脉冲形状控制器；和

其中所述控制器配置成在所述导通状态与所述断开状态之间改变所述第一切换器，且在所述断开状态与所述导通状态之间改变所述第二切换器。

2.如权利要求1所述的脉冲控制系统，其中所述第一切换组件进一步包含：

第一二极管，所述第一二极管与所述第一切换器并联。

3.如权利要求2所述的脉冲控制系统，其中所述第二切换组件进一步包含：

第二二极管，所述第二二极管与所述第二切换器并联。

4.如权利要求1所述的脉冲控制系统，其中所述脉冲形状控制器进一步包含：

冷却系统，所述冷却系统至少部分地围绕所述第一切换器和所述第二切换器。

5.如权利要求4所述的脉冲控制系统，其中所述冷却系统进一步包含：

具有第一入口和第一出口的第一外壳，所述第一外壳定位成至少部分地围绕所述第一切换器；

具有第二入口和第二出口的第二外壳，所述第二外壳至少部分地围绕所述第二切换器；

泵；

第一导管，所述第一导管延伸于所述第一外壳与所述泵之间；

第二导管，所述第二导管延伸于所述泵与所述第二外壳之间；和

第三导管，所述第三导管延伸于所述第一外壳与所述第二外壳之间。

6.如权利要求5所述的脉冲控制系统，其中所述冷却系统进一步包含：

热交换器，所述热交换器定位于所述泵与所述第二外壳之间。

7.一种基板处理系统，包含：

基板处理腔室，包含：

腔室主体，所述腔室主体具有侧壁和底部；

盖组件，所述盖组件定位于所述侧壁上而形成内部空间，所述盖组件具有靶材，所述靶材配置成提供可溅射且沉积于基板的表面上的材料源；和

基板支撑组件，所述基板支撑组件设置于所述内部空间中在所述盖组件下方，所述基板支撑组件配置成在处理期间支撑基板；和

脉冲控制系统，包含：

功率源；

系统控制器；和

脉冲形状控制器，所述脉冲形状控制器耦接至所述功率源和所述基板处理腔室，所述脉冲形状控制器与所述系统控制器连通，所述脉冲形状控制器包含：

第一切换组件，所述第一切换组件具有第一切换器，所述第一切换器具有第一端和第二端，所述第一端耦接至所述功率源且所述第二端耦接至所述靶材，所述第一切换器可配置于断开状态与导通状态之间；和

第二切换组件，所述第二切换组件具有第一端和第二端，所述第一端耦接至接地且所述第二端耦接至所述靶材，所述第二切换器可配置于所述断开状态与所述导通状态之间，其中所述第一切换器在所述导通状态中且所述第二切换器在所述断开状态中，且其中在所述导通状态中的所述第一切换器配置成允许将由所述功率源所供应的脉冲传送通过所述脉冲形状控制器而至所述靶材；和

其中所述控制器配置成响应于检测到脉冲峰值，在所述导通状态与所述断开状态之间改变所述第一切换器，且在所述断开状态与所述导通状态之间改变所述第二切换器。

8.如权利要求7所述的基板处理系统，其中所述第一切换组件进一步包含：

第一二极管，所述第一二极管与所述第一切换器并联。