[发明专利]光学系统以及光学设备有效

专利信息
申请号: 201780046006.4 申请日: 2017-07-27
公开(公告)号: CN109477950B 公开(公告)日: 2021-11-30
发明(设计)人: 三轮哲史;籔本洋 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G02B13/02 分类号: G02B13/02
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 季莹;方应星
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光学系统 以及 光学 设备
【说明书】:

在相机(1)等光学设备中的光学系统(OL)构成为,具备在进行对焦时移动的对焦组(Gf)、相比该对焦组(Gf)配置于物体侧的衍射光学元件(GD)以及相比该衍射光学元件(GD)配置于物体侧的负透镜要素(L1n)。该光学系统(OL)满足下式:0.030f/fpf0.050 nd1n+0.006×νd1n1.910 35νd1n其中,f:无限远对焦状态下的整个系统的焦距fpf:衍射光学元件(GD)的焦距nd1n:负透镜要素(L1n)的介质的对d线的折射率νd1n:负透镜要素(L1n)的介质的对d线的阿贝数。

技术领域

本发明涉及光学系统、光学设备以及光学系统的制造方法。

背景技术

以往,提出了使用衍射光学元件实现小型化的光学系统(例如,参照专利文献1)。但是,记载于专利文献1的光学系统,需要进一步提高光学性能。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2015-011171号公报

发明内容

本发明的第一方式的光学系统,其特征在于,具备:对焦组,在进行对焦时移动;衍射光学元件,相比对焦组配置于物体侧;以及负透镜要素,相比衍射光学元件配置于物体侧,且所述光学系统满足下式(1-1)、(1-2)以及(1-3)。

0.030f/fpf0.050 (1-1)

nd1n+0.006×νd1n1.910 (1-2)

35νd1n (1-3)

其中,

f:无限远对焦状态下的整个系统的焦距

fpf:衍射光学元件的焦距

nd1n:负透镜要素的介质的对d线的折射率

νd1n:负透镜要素的介质的对d线的阿贝数

透镜要素是指单透镜或构成接合透镜的各个透镜。

本发明的第二方式的光学系统,具备:对焦组,在进行对焦时移动,具有至少两个透镜要素;衍射光学元件,相比对焦组配置于物体侧;防抖组,相比对焦组配置于像侧,以具有与光轴正交的方向的位移分量的方式移动;以及至少三个负透镜要素,相比防抖组配置于像侧。上述三个负透镜要素中的至少两个为满足下式(2-1)、(2-2)的特定负透镜要素。

0.654θgF3n+0.00168×νd3n (2-1)

1.98nd3n+0.01×νd3n (2-2)

其中,

θgF3n:特定负透镜要素的介质的部分色散率

νd3n:特定负透镜要素的介质的对d线的阿贝数

nd3n:特定负透镜要素的介质的对d线的折射率

该光学系统还满足下式(2-3)。

TL/f0.61 (2-3)

其中,

TL:无限远对焦状态下的全长

f:无限远对焦状态下的整个系统的焦距

透镜要素是指单透镜或构成接合透镜的各个透镜。

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