[发明专利]光刻设备、光刻投影设备和器件制造方法

说明书

本发明涉及一种光刻设备，包括：‑基部框架(10)，适于将所述光刻设备(1)安装在支撑表面(9)上；‑投影系统(20)，所述投影系统包括：‑力框架(30)，‑光学元件(21)，所述光学元件能够相对于所述力框架移动，‑传感器框架(40)，所述传感器框架与所述力框架分开，‑至少一个传感器，适于监测所述光学元件，包括安装到所述传感器框架上的至少一个传感器元件(25)，‑力框架支撑件(31)，适于支撑在所述基部框架上的力框架，‑中间框架(45)，所述中间框架与所述力框架分开，‑传感器框架联接器(41)，适于将所述传感器框架耦接到所述中间框架，‑中间框架支撑件(46)，所述中间框架支撑件与所述力框架支撑件分开并且适于支撑位于所述基部框架上的所述中间框架。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2016年7月22日提交的欧洲申请16180675.7的优先权，该欧洲申请通过引用整体并入本文。

技术领域

本发明涉及一种光刻设备、一种光刻投影设备和一种用于制造其中使用光刻设备的器件的方法。

背景技术

光刻设备是一种将所期望的图案施加到衬底(通常是在衬底的目标部分上)上的机器。例如，光刻设备可以用于集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将替代地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成于IC的单层上的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括管芯的一部分、一个或更多个管芯)上。典型地，通过将图案成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行图案的转移。通常，单个衬底将包含被连续图案化的相邻目标部分的网络。常规的光刻设备包括所谓的步进器和所谓的扫描器，在步进器中，通过将整个图案一次曝光到目标部分上来辐射每个目标部分；在扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案，同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步扫描衬底来辐射每个目标部分。也有可能通过图案压印到衬底上而将图案从图案形成装置转移到衬底上。

光刻设备通常包括投影系统，所述投影系统包括至少一个光学元件，诸如反射镜或透镜。照射系统调节被发送到图案形成装置的辐射束。所述束从图案形成装置进入投影系统，投影系统将辐射束转移到衬底上。

光学元件需要相对于至少所述辐射束被准确地定位，以便实现期望的投影准确度，且于是减少在衬底上的图像中的重叠误差。

可选地，投影系统包括多个光学元件。在那种情况下，光学元件相对于彼此的位置需要被准确地控制，以便获得期望的投影准确度。当期望一个或更多个光学元件执行扫描运动以便例如补偿衬底的热膨胀时，这种位置控制变得更为复杂。

发明内容

期望提供一种光刻设备和一种允许获得良好投影准确度的光刻投影设备。

根据本发明的实施例，提供了一种光刻设备，包括：

-基部框架，适于将光刻设备安装在支撑表面上，

-投影系统，包括：

-力框架，

-能够相对于所述力框架移动的光学元件，

-传感器框架，所述传感器框架与所述力框架分开，

-至少一个传感器，适于监测所述光学元件，所述传感器包括安装到所述传感器框架上的至少一个传感器元件，

-力框架支撑件，适于支撑位于所述基部框架上的力框架，

-中间框架，所述中间框架与所述力框架分开，

-传感器框架联接器，适于将所述传感器框架耦接到所述中间框架，

-中间框架支撑件，所述中间框架支撑件与所述力框架支撑件分开并且适于支撑位于所述基部框架上的所述中间框架。

在本发明的另一个实施例中，提供了一种光刻设备，包括：