[发明专利]具有薄膜台阶覆盖性的涂覆膜、具备该膜的结构基体

权利要求书

1.一种结构基体，其在至少一部分表面具备最大膜厚与最小膜厚之差为以下的涂覆膜，

所述涂覆膜包含下述共聚物，所述共聚物包含：含有下式(a)表示的基团的重复单元；和含有下式(b)表示的基团的重复单元，

[化学式1]

式中，

U^a1、U^a2、U^b1、U^b2及U^b3各自独立地表示氢原子或者碳原子数1至5的直链或支链烷基，An^-表示选自由卤化物离子、无机酸根离子、氢氧根离子及异硫氰酸根离子组成的组中的阴离子。

2.如权利要求1所述的结构基体，其中，所述共聚物包含下式(a1)及(b1)表示的重复单元，

[化学式2]

式中，

T^a及T^b各自独立地表示氢原子或者碳原子数1至5的直链或支链烷基；

Q^a及Q^b各自独立地表示单键、酯键或酰胺键；

R^a及R^b各自独立地表示可被卤原子取代的碳原子数1至10的直链或支链亚烷基；

U^a1、U^a2、U^b1、U^b2及U^b3各自独立地表示氢原子或者碳原子数1至5的直链或支链烷基；

An^-表示选自由卤化物离子、无机酸根离子、氢氧根离子及异硫氰酸根离子组成的组中的阴离子；

m表示0至6的整数。

3.如权利要求1或2所述的结构基体，其中，所述结构基体包含由至少两个彼此相接的平面构成、并且两个平面相交的角度为0<θ<180°的结构部分。

4.如权利要求1～3中任一项所述的结构基体，其中，涂覆膜为抑制生物材料附着的涂覆膜。

5.如权利要求1～4中任一项所述的结构基体，结构基体为细胞培养容器及/或光学测定用基体。

6.如权利要求1～5中任一项所述的结构基体，其中，结构基体表面在大气中的水接触角为0～120°、或在水中的气泡接触角为80～180°。

7.权利要求1所述的结构基体的制造方法，其包括下述工序：将涂覆剂经一步涂布于结构基体，在所述结构基体的至少一部分表面形成最大膜厚与最小膜厚之差为以下的涂覆膜，其中，

所述涂覆剂包含下述共聚物，所述共聚物包含：含有下式(a)表示的基团的重复单元；和含有下式(b)表示的基团的重复单元，

[化学式3]

式中，

U^a1、U^a2、U^b1、U^b2及U^b3各自独立地表示氢原子或者碳原子数1至5的直链或支链烷基，An^-表示选自由卤化物离子、无机酸根离子、氢氧根离子及异硫氰酸根离子组成的组中的阴离子。