[发明专利]电解液、电解槽用电解液和电解槽系统有效
| 申请号： | 201780044128.X | 申请日： | 2017-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN109477230B | 公开（公告）日： | 2021-03-30 |
| 发明（设计）人： | 森内清晃;中幡英章;长谷川胜哉 | 申请（专利权）人： | 住友电气工业株式会社 |
| 主分类号： | C25B1/02 | 分类号： | C25B1/02;C25B1/01;C25B9/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王海川;穆德骏 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 电解液 电解槽 用电 系统 | ||
1.一种全钒类电解液，其中周期表第五周期中第1至8族元素的离子及第13至16族元素的离子和周期表第六周期中第1、2和4至8族元素的离子及第13至15族元素的离子的总浓度大于610mg/L且为2400mg/L以下，这些离子是与气体的产生相关的添加元素离子。
2.一种全钒类电解液，其中作为与气体的产生相关的添加元素离子的钡离子的浓度大于20mg/L且为340mg/L以下。
3.一种全钒类电解液，其中作为与气体的产生相关的添加元素离子的钼离子的浓度大于510mg/L且为2000mg/L以下。
4.一种全钒类电解液，其中作为与气体的产生相关的添加元素离子的钨离子的浓度大于30mg/L且为490mg/L以下。
5.一种全钒类电解液，其中作为与气体的产生相关的添加元素离子的铼离子的浓度大于5mg/L且为260mg/L以下。
6.一种全钒类电解液，其中作为与气体的产生相关的添加元素离子的铟离子的浓度大于5mg/L且为440mg/L以下。
7.一种全钒类电解液，其中作为与气体的产生相关的添加元素离子的锑离子的浓度大于10mg/L且为490mg/L以下。
8.一种全钒类电解液，其中作为与气体的产生相关的添加元素离子的铋离子的浓度大于20mg/L且为525mg/L以下。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的全钒类电解液，其中
钒离子的浓度为1mol/L以上且3mol/L以下，
游离硫酸的浓度为1mol/L以上且4mol/L以下，
磷酸的浓度为1.0×10-4mol/L以上且7.1×10-1mol/L以下，
铵的浓度为20mg/L以下，并且
硅的浓度为40mg/L以下。
10.一种电解槽用电解液，所述电解液包含根据权利要求1至9中任一项所述的全钒类电解液。
11.一种电解槽系统，其包含根据权利要求10所述的电解槽用电解液、和被供给所述电解槽用电解液的电解槽。
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