[发明专利]变倍光学系统、光学设备以及变倍光学系统的制造方法有效
申请号: | 201780043792.2 | 申请日: | 2017-07-14 |
公开(公告)号: | CN109477952B | 公开(公告)日: | 2021-08-10 |
发明(设计)人: | 原田壮基 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03B5/00 | 分类号: | G03B5/00;G02B15/14;G02B27/64 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 季莹;方应星 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学系统 光学 设备 以及 制造 方法 | ||
本发明提供一种变倍光学系统(ZL),具备:第1透镜组(G1),具有负的光焦度;第2透镜组(G2),相比第1透镜组(G1)配置于像侧,具有正的光焦度;以及后续透镜组(GL),相比第2透镜组(G2)配置于像侧,具备以具有与光轴正交的方向的位移分量的方式移动的防抖组(GVRb),在进行变倍时,第1透镜组(G1)与第2透镜组(G2)之间的间隔变化,第2透镜组(G2)与后续透镜组(GL)之间的间隔变化,且所述变倍光学系统满足以下的条件式:5.000|f1VRaw/fw|1000.000其中,f1VRaw:相比防抖组配置于物体侧的透镜的广角端状态下的合成焦距fw:广角端状态下的整个系统的焦距。
技术领域
本发明涉及变倍光学系统、光学设备以及变倍光学系统的制造方法。
背景技术
以往,公开有具备手抖校正机构的广角变倍光学系统(例如,参照专利文献1)。但是,记载于专利文献1的变倍光学系统存在要求进一步提高光学性能的课题。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开平11-231220号公报
发明内容
本发明的第一方式的变倍光学系统的特征在于,具备:第1透镜组,具有负的光焦度;第2透镜组,相比第1透镜组配置于像侧,具有正的光焦度;以及后续透镜组,相比第2透镜组配置于像侧,具备以具有与光轴正交的方向的位移分量的方式移动的防抖组,在进行变倍时,第1透镜组与第2透镜组之间的间隔变化,第2透镜组与后续透镜组之间的间隔变化,且所述变倍光学系统满足下式:
5.000|f1VRaw/fw|1000.000
其中,
f1VRaw:相比防抖组配置于物体侧的透镜的广角端状态下的合成焦距
fw:广角端状态下的整个系统的焦距。
本发明的第一方式的光学系统的制造方法,变倍光学系统具备:第1透镜组,具有负的光焦度;第2透镜组,相比第1透镜组配置于像侧,具有正的光焦度;以及后续透镜组,相比第2透镜组配置于像侧,具备以具有与光轴正交的方向的位移分量的方式移动的防抖组,变倍光学系统的制造方法的特征在于,所述变倍光学系统配置成,在进行变倍时,第1透镜组与第2透镜组之间的间隔变化,第2透镜组与后续透镜组之间的间隔变化,且所述变倍光学系统配置成满足下式:
5.000|f1VRaw/fw|1000.000
其中,
f1VRaw:相比防抖组配置于物体侧的透镜的广角端状态下的合成焦距
fw:广角端状态下的整个系统的焦距。
附图说明
图1是示出第1实施例的变倍光学系统的镜头结构的剖视图,(W)示出广角端状态,(M)示出中间焦距状态,(T)示出远焦端状态。
图2是第1实施例的变倍光学系统的广角端状态的各像差图,(a)是无限远对焦状态时的各像差图,(b)是在无限远对焦状态下进行了手抖校正时的横向像差图。
图3是第1实施例的变倍光学系统的中间焦距状态的各像差图,(a)是无限远对焦状态时的各像差图,(b)是在无限远对焦状态下进行了手抖校正时的横向像差图。
图4是第1实施例的变倍光学系统的远焦端状态的各像差图,(a)是无限远对焦状态时的各像差图,(b)是在无限远对焦状态下进行了手抖校正时的横向像差图。
图5是示出第2实施例的变倍光学系统的镜头结构的剖视图,(W)示出广角端状态,(M)示出中间焦距状态,(T)示出远焦端状态。
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