[发明专利]光学构件的制造方法有效

专利信息
申请号: 201780043392.1 申请日: 2017-07-03
公开(公告)号: CN109476073B 公开(公告)日: 2021-05-14
发明(设计)人: 厚母贤;芝井康博;中松健一郎 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: B29C59/02 分类号: B29C59/02;B32B3/30;B32B38/06
代理公司: 北京市隆安律师事务所 11323 代理人: 权鲜枝;侯剑英
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光学 构件 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种光学构件的制造方法,上述光学构件具备:基材;以及聚合物层,其配置在上述基材的表面上,在表面具有以可见光的波长以下的间距设有多个凸部的凹凸结构,上述光学构件的制造方法的特征在于,包括:

工序(1),使光固化性树脂和脱模剂溶解于溶剂,调制树脂溶液;

工序(2),将上述树脂溶液涂敷到上述基材的表面上;

工序(3),进行从上述树脂溶液的涂敷物除去上述溶剂的加热处理,形成树脂层;

工序(4),在将上述树脂层夹在中间的状态下,将上述基材按压于模具,将上述凹凸结构形成于上述树脂层的表面;以及

工序(5),通过光照射使上述树脂层固化,形成上述聚合物层,

上述光固化性树脂含有与上述脱模剂相溶的相溶性单体,上述相溶性单体是具有酰胺基、醚基或羟基的单官能单体,

上述脱模剂含有含氟单体和N-丙烯酰吗啉,上述树脂层中的上述脱模剂的有效成分的含有率为0.1重量%以上、10重量%以下,

上述光固化性树脂和上述脱模剂是在相互混合的情况下表现出5度以上、25度以下的浊度的组合,上述浊度基于高岭土标准液来决定,

上述光学构件的雾度不到1.0%。

2.一种光学构件的制造方法,上述光学构件具备:基材;以及聚合物层,其配置在上述基材的表面上,在表面具有以可见光的波长以下的间距设有多个凸部的凹凸结构,上述光学构件的制造方法的特征在于,包括:

工序(1),涂敷第一树脂和第二树脂;

工序(2),在将上述第一树脂和上述第二树脂夹在中间的状态下,将基材从上述第一树脂侧按压于模具,形成在表面具有上述凹凸结构的树脂层;以及

工序(3),通过光照射使上述树脂层固化,形成上述聚合物层,

上述第一树脂含有光固化性树脂,

上述第二树脂含有脱模剂,

上述光固化性树脂含有与上述脱模剂相溶的相溶性单体,上述相溶性单体是具有酰胺基、醚基或羟基的单官能单体,

上述第一树脂和上述第二树脂是在相互混合的情况下表现出22.1度以上、28.3度以下的浊度的组合,上述浊度基于高岭土标准液来决定,

上述脱模剂含有含氟单体和N-丙烯酰吗啉,上述树脂层中的上述脱模剂的有效成分的含有率为0.1重量%以上、10重量%以下,

上述光学构件的雾度不到1.0%。

3.根据权利要求2所述的光学构件的制造方法,其特征在于,

上述第一树脂和上述第二树脂不含有溶剂。

4.根据权利要求1至3中的任意一项所述的光学构件的制造方法,其特征在于,

上述光固化性树脂中的上述相溶性单体的含有率为5重量%以上、30重量%以下。

5.根据权利要求1至3中的任意一项所述的光学构件的制造方法,其特征在于,

上述聚合物层的厚度为5.0μm以上、20.0μm以下。

6.根据权利要求1至3中的任意一项所述的光学构件的制造方法,其特征在于,

上述间距为100nm以上、400nm以下。

7.根据权利要求1至3中的任意一项所述的光学构件的制造方法,其特征在于,

上述多个凸部的高度分别为50nm以上、600nm以下。

8.根据权利要求1至3中的任意一项所述的光学构件的制造方法,其特征在于,

上述多个凸部的高宽比分别为0.8以上、1.5以下。

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