[发明专利]光学构件的制造方法有效
申请号: | 201780043392.1 | 申请日: | 2017-07-03 |
公开(公告)号: | CN109476073B | 公开(公告)日: | 2021-05-14 |
发明(设计)人: | 厚母贤;芝井康博;中松健一郎 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | B29C59/02 | 分类号: | B29C59/02;B32B3/30;B32B38/06 |
代理公司: | 北京市隆安律师事务所 11323 | 代理人: | 权鲜枝;侯剑英 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 构件 制造 方法 | ||
1.一种光学构件的制造方法,上述光学构件具备:基材;以及聚合物层,其配置在上述基材的表面上,在表面具有以可见光的波长以下的间距设有多个凸部的凹凸结构,上述光学构件的制造方法的特征在于,包括:
工序(1),使光固化性树脂和脱模剂溶解于溶剂,调制树脂溶液;
工序(2),将上述树脂溶液涂敷到上述基材的表面上;
工序(3),进行从上述树脂溶液的涂敷物除去上述溶剂的加热处理,形成树脂层;
工序(4),在将上述树脂层夹在中间的状态下,将上述基材按压于模具,将上述凹凸结构形成于上述树脂层的表面;以及
工序(5),通过光照射使上述树脂层固化,形成上述聚合物层,
上述光固化性树脂含有与上述脱模剂相溶的相溶性单体,上述相溶性单体是具有酰胺基、醚基或羟基的单官能单体,
上述脱模剂含有含氟单体和N-丙烯酰吗啉,上述树脂层中的上述脱模剂的有效成分的含有率为0.1重量%以上、10重量%以下,
上述光固化性树脂和上述脱模剂是在相互混合的情况下表现出5度以上、25度以下的浊度的组合,上述浊度基于高岭土标准液来决定,
上述光学构件的雾度不到1.0%。
2.一种光学构件的制造方法,上述光学构件具备:基材;以及聚合物层,其配置在上述基材的表面上,在表面具有以可见光的波长以下的间距设有多个凸部的凹凸结构,上述光学构件的制造方法的特征在于,包括:
工序(1),涂敷第一树脂和第二树脂;
工序(2),在将上述第一树脂和上述第二树脂夹在中间的状态下,将基材从上述第一树脂侧按压于模具,形成在表面具有上述凹凸结构的树脂层;以及
工序(3),通过光照射使上述树脂层固化,形成上述聚合物层,
上述第一树脂含有光固化性树脂,
上述第二树脂含有脱模剂,
上述光固化性树脂含有与上述脱模剂相溶的相溶性单体,上述相溶性单体是具有酰胺基、醚基或羟基的单官能单体,
上述第一树脂和上述第二树脂是在相互混合的情况下表现出22.1度以上、28.3度以下的浊度的组合,上述浊度基于高岭土标准液来决定,
上述脱模剂含有含氟单体和N-丙烯酰吗啉,上述树脂层中的上述脱模剂的有效成分的含有率为0.1重量%以上、10重量%以下,
上述光学构件的雾度不到1.0%。
3.根据权利要求2所述的光学构件的制造方法,其特征在于,
上述第一树脂和上述第二树脂不含有溶剂。
4.根据权利要求1至3中的任意一项所述的光学构件的制造方法,其特征在于,
上述光固化性树脂中的上述相溶性单体的含有率为5重量%以上、30重量%以下。
5.根据权利要求1至3中的任意一项所述的光学构件的制造方法,其特征在于,
上述聚合物层的厚度为5.0μm以上、20.0μm以下。
6.根据权利要求1至3中的任意一项所述的光学构件的制造方法,其特征在于,
上述间距为100nm以上、400nm以下。
7.根据权利要求1至3中的任意一项所述的光学构件的制造方法,其特征在于,
上述多个凸部的高度分别为50nm以上、600nm以下。
8.根据权利要求1至3中的任意一项所述的光学构件的制造方法,其特征在于,
上述多个凸部的高宽比分别为0.8以上、1.5以下。
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