[发明专利]使用化学还原方法制造具有核壳结构的银涂覆的铜纳米线的方法在审
申请号: | 201780041973.1 | 申请日: | 2017-05-30 |
公开(公告)号: | CN109414764A | 公开(公告)日: | 2019-03-01 |
发明(设计)人: | 朴翰浯;金在河;金俊杓;尹国进 | 申请(专利权)人: | 柏业公司 |
主分类号: | B22F9/24 | 分类号: | B22F9/24;B22F1/02 |
代理公司: | 北京坤瑞律师事务所 11494 | 代理人: | 陈桉 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 铜纳米线 银涂 核壳结构 化学还原 制备 高导电性 糊剂 银氨络合物 导电性 电磁屏蔽 化学生产 还原剂 铜表面 再利用 被银 劣化 涂覆 生产 制造 | ||
1.制备具有核壳结构的银涂覆的铜纳米线的方法,该方法包括:
(a)将在水中含有(1)碱、(2)铜化合物和(3)封端剂的水溶液搅拌;
(b)通过向该水溶液中添加还原剂以将铜离子还原来生产铜纳米线;
(c)洗涤并且干燥所生产的铜纳米线;
(d)从在步骤(c)中生产的铜纳米线中去除氧化物膜;
(e)向步骤(d)的溶液中添加还原剂,调节pH并且然后在逐滴添加硝酸银-氨络合物溶液的同时形成银涂层;并且
(f)将在步骤(e)中制备的银涂覆的铜纳米线洗涤并且干燥。
2.权利要求1的制备具有核壳结构的银涂覆的铜纳米线的方法,进一步包括(c’)在步骤(c)后通过向与该铜纳米线分离的溶液中添加铜前体和还原剂来再合成铜纳米线。
3.权利要求2的制备具有核壳结构的银涂覆的铜纳米线的方法,其中,通过重复步骤(c’)两次或更多次来合成铜纳米线。
4.权利要求1的制备具有核壳结构的银涂覆的铜纳米线的方法,其中,在步骤(d)中使用氨水和硫酸铵的混合溶液作为用于去除氧化物膜的溶液。
5.权利要求4的制备具有核壳结构的银涂覆的铜纳米线的方法,其中,步骤(d)中的氨水和硫酸铵的混合溶液的浓度是0.001至0.3M。
6.权利要求4的制备具有核壳结构的银涂覆的铜纳米线的方法,其中,步骤(d)进行1至60分钟。
7.权利要求1的制备具有核壳结构的银涂覆的铜纳米线的方法,其中,在步骤(e)中,向在步骤(d)中从其中去除了该氧化物膜的铜纳米线溶液中添加该还原剂,调节pH,并且在以50至1600rpm搅拌的同时将该硝酸银-氨络合物溶液以0.5至500ml/分钟注入。
8.权利要求1的制备具有核壳结构的银涂覆的铜纳米线的方法,其中,步骤(e)中的还原剂选自下组,该组由以下各项组成:草酸、丙二酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸、癸二酸、十三烷二酸、十二烷酸、十六烷二酸、马来酸、富马酸、葡糖酸、愈伤酸、粘康酸、粘叶莸酸、柠康酸、中康酸、天门冬氨酸、谷氨酸、二氨基庚二酸、丙醇二酸、阿拉伯糖二酸、葡糖二酸、中草酸、草酰乙酸、丙酮二羧酸、邻苯二甲酸、间苯二甲酸、对苯二甲酸、联苯二甲酸、酒石酸、酒石酸钾钠、抗坏血酸、氢醌、葡萄糖和肼。
9.权利要求8的制备具有核壳结构的银涂覆的铜纳米线的方法,其中,该还原剂的浓度是0.001M至3M。
10.权利要求7的制备具有核壳结构的银涂覆的铜纳米线的方法,其中,该铜纳米线溶液的pH是8至11。
11.权利要求7的制备具有核壳结构的银涂覆的铜纳米线的方法,其中,该硝酸银-氨络合物溶液通过将硝酸银溶液和氨水混合来制备。
12.权利要求11的制备具有核壳结构的银涂覆的铜纳米线的方法,其中,该硝酸银-氨络合物溶液中硝酸银的浓度是0.001至1M。
13.权利要求7的制备具有核壳结构的银涂覆的铜纳米线的方法,其中,该硝酸银-氨络合物溶液中氨水的浓度是0.01-0.3M。
14.权利要求1的制备具有核壳结构的银涂覆的铜纳米线的方法,其中,步骤(a)中的(1)碱是NaOH、KOH或Ca(OH)2。
15.权利要求1的制备具有核壳结构的银涂覆的铜纳米线的方法,其中,该(1)碱的浓度是2.5至25M。
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