[发明专利]用于使掩蔽装置非接触地悬浮的方法

权利要求书

1.一种方法，包括：

使掩模组件(200)非接触地悬浮，所述掩模组件(200)包括载体(210)和由所述载体支持的掩蔽装置(20)；和

在所述掩模组件非接触地悬浮时控制所述载体的形状。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述掩模组件通过多个磁悬浮力(620、920)非接触地悬浮，通过控制所述多个磁悬浮力来控制所述载体的所述形状。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述多个磁悬浮力中的至少两个磁悬浮力具有不同的量值。

4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中控制所述载体的所述形状包括提供所述载体的变形。

5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中控制所述载体的所述形状以使所述掩蔽装置对准。

6.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述掩模组件进一步包括掩模支撑件(310、510)，所述掩蔽装置连接到所述掩模支撑件，所述掩模支撑件连接到所述载体，特别地其中所述掩模支撑件是掩模框架(510)。

7.根据权利要求6所述的方法，其中控制所述载体的所述形状以补偿所述掩模支撑件的变形。

8.根据权利要求6或7中任一项所述的方法，其中所述掩模支撑件是掩模框架(510)，所述掩模框架包括第一框架元件(522)，其中控制所述载体的所述形状以使所述第一框架元件与基本上水平的方向(692)对准。

9.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述载体的所述形状仅由非接触力控制。

10.一种方法，包括：

用第一多个磁悬浮力(910)使第一掩模组件(200)非接触地悬浮，所述第一掩模组件包括第一载体(210)和由所述第一载体支持的第一掩模装置(20)；

在由所述第一多个磁悬浮力使所述第一掩模组件非接触地悬浮时测量所述第一掩蔽装置的对准；

计算第二多个磁悬浮力(920)；和

通过所述第二多个磁悬浮力使掩模组件非接触地悬浮，所述掩模组件包括载体和由所述载体支持的掩蔽装置，其中所述掩模组件是所述第一掩模组件或第二掩模组件，

其中所述第二多个磁悬浮力提供所述载体的变形。

11.根据权利要求10所述的方法，其中所述第二多个磁悬浮力中的至少两个磁悬浮力具有不同的量值。

12.根据权利要求10或11中任一项所述的方法，进一步包括：

根据至少所测量的所述第一掩蔽装置的对准来确定所述第一掩蔽装置的所述形状与目标形状的偏差。

13.一种设备(1000)，包括：

磁悬浮系统，所述磁悬浮系统包括多个磁性单元(610)；

掩模组件(200)，所述掩模组件包括载体(210)和由所述载体支持的掩蔽装置(20)；和

控制单元(1010)，所述控制单元连接到所述多个磁性单元，

所述设备被配置用于在使所述掩模组件非接触地悬浮时控制所述载体的所述形状。

14.根据权利要求13所述的设备，其中所述控制单元被配置用于在所述掩模组件非接触地悬浮时控制所述多个磁性单元以控制所述载体的所述形状。

15.根据权利要求13或14中任一项所述的设备，进一步包括一个或多个测量装置(912、914)，所述测量装置被配置用于测量所述掩蔽装置的对准。