[发明专利]一种铜基硫族化物光伏器件及其形成方法有效

专利信息
申请号: 201780039014.6 申请日: 2017-06-21
公开(公告)号: CN109729745B 公开(公告)日: 2023-06-06
发明(设计)人: 郝晓静;刘芳洋;黄嘉亮;颜畅;孙凯文;马丁·安德鲁·格林 申请(专利权)人: 新南创新私人有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/032;H01L31/072;H01L31/0749;H01L21/02
代理公司: 上海一平知识产权代理有限公司 31266 代理人: 徐迅;马莉华
地址: 澳大利亚新*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 铜基硫族化物光伏 器件 及其 形成 方法
【权利要求书】:

1.一种用于形成光伏器件的方法,包括步骤:

(i)在基板上提供第一导电材料层;

(ii)在所述第一导电材料层上沉积连续的介电材料层,所述介电材料层薄于10nm;

(iii)退火所述第一导电材料层和所述连续的介电材料层;

(iv)在所述介电材料层上形成硫族化物光吸收材料;和

(v)在所述硫族化物光吸收材料上沉积第二材料,以使得所述第二材料电耦合至所述硫族化物光吸收材料;

其中,所述第一导电材料层和所述连续的介电材料层被选择以使得,在退火步骤期间,所述第一导电材料层的一部分经历化学反应以形成:

(a)在第一导电材料层和所述介电材料层之间的界面处的金属硫族化物材料层;和

(b)所述介电材料层中的多个空缺;所述空缺就是这样以允许所述硫族化物光吸收材料和所述金属硫族化物材料层之间的电耦合;

其中,在退火步骤期间,经历化学反应的所述第一导电材料层的部分在体积上膨胀并将张应力施加到连续的介电材料层的晶格结构,以便使结构改变以在连续的介电材料层中形成自组织的空缺的纳米图案。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,形成硫族化物光吸收材料的步骤包括步骤:在进行退火步骤前,在连续的介电材料层上沉积多个前体材料,并且所述退火步骤包括在硫族化物氛围中退火所述第一导电材料层、所述连续的介电材料层和所述多个前体材料,其中,所述多个前体材料反应以形成所述硫族化物光吸收材料。

3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述连续的介电材料层上形成硫族化物光吸收材料的步骤通过以下方式进行:在退火所述第一导电材料层和所述连续的介电材料层后,在连续的介电材料层上沉积多个前体材料,并导致所述多个前体材料反应以形成所述硫族化物光吸收材料。

4.如权利要求1、2和3任一项所述的方法,其特征在于,介电材料层中所述空缺的纳米图案是允许在光伏器件运行期间从所述第一导电材料层至所述硫族化物光吸收材料的电传导的。

5.如权利要求1、2和3任一项所述的方法,其特征在于,

所述硫族化物光吸收材料包括硫或硒,且

所述第一导电材料层包括钼以及,在退火步骤期间,来自硫族化物光吸收材料的硫或硒扩散穿过连续的介电材料层以与所述钼反应并形成作为所述金属硫族化物材料层的硫化钼或硒化钼。

6.如权利要求4所述的方法,其特征在于,所述空缺具有在50nm和250nm之间的直径。

7.如权利要求4所述的方法,其特征在于,在所述介电材料层中的空缺的表面密度在6·108空缺/cm2和10·1010空缺/cm2之间。

8.如权利要求5所述的方法,其特征在于,所述介电材料层的介电材料是氧化铝或氧化硅。

9.如权利要求5所述的方法,其特征在于,所述硫族化物光吸收材料是CZTS或CIGS层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新南创新私人有限公司,未经新南创新私人有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780039014.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top