[发明专利]打光校正方法及装置

权利要求书

1.一种打光校正方法，其特征在于，包括：

采集检测对象在光源照射下的图像；

至少利用所述检测对象的图像对所述检测对象进行定位以获取所述检测对象的空间位置；

利用所述检测对象的空间位置及预先获取的所述光源的光场信息获取所述检测对象被所述光源照射表面的光场分布；

根据所述光场分布对所述检测对象的图像进行打光校正；

其中，所述预先获取的所述光源的光场信息的获取方式，包括：

采集标定板在所述光源照射下的图像；

根据所述标定板的图像及所述标定板上反射区域的反射率获取所述反射区域所在的空间位置的入射光强；

至少利用所述入射光强获取所述光源的光场信息；

所述根据所述标定板的图像及所述标定板上反射区域的反射率获取所述反射区域所在的空间位置的入射光强包括：

根据所述标定板的图像对所述反射区域进行定位以获取所述反射区域所在的空间位置；

根据所述标定板的图像中所述反射区域的灰阶值获取所述反射区域的反射光强；

根据所述反射光强及所述反射区域的反射率获取所述反射区域所在的空间位置的入射光强；

所述根据所述标定板的图像对所述反射区域进行定位以获取所述反射区域所在的空间位置包括：

根据所述标定板的图像对所述标定板进行定位以获取所述标定板的空间位置信息；

根据所述反射区域在所述标定板上的分布信息及所述标定板的空间位置信息确定所述反射区域所在的空间位置。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

所述至少利用所述入射光强获取所述光源的光场信息包括：

利用所述入射光强及所述光源对应的辐射模型获取所述光源的光场信息。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，

所述至少利用所述入射光强获取所述光源的光场信息之前进一步包括：

为所述光源建立所述对应的辐射模型，以用于结合所述入射光强获取所述光源的光场信息。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，

所述光源包括线光源和/或面光源，所述为所述光源建立所述对应的辐射模型包括：

将所述线光源/面光源等效为多个点光源；

为每个所述等效的点光源建立对应的辐射模型；

将所有所述等效的点光源的辐射模型的集合作为所述线光源/面光源的辐射模型。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，

所述将所述线光源/面光源等效为多个点光源包括：

采集所述线光源/面光源的图像；

根据所述线光源/面光源的图像确认所述线光源/面光源的出射光强分布；

根据所述出射光强分布将所述线光源/面光源等效为多个点光源。

6.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，

所述光场信息至少包括每个所述光源的每个可见方向的出射光强度。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

所述根据所述标定板的图像及所述标定板上反射区域的反射率获取所述反射区域所在的空间位置的入射光强之前进一步包括：

获取所述反射区域至少一个方向上的反射率。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，

所述获取所述反射区域至少一个方向上的反射率包括：检测所述反射区域的双向反射分布函数以获取所述反射区域的各向反射率。

9.根据权利要求1~8中任意一项所述的方法，其特征在于，

所述根据所述光场分布对所述检测对象的图像进行打光校正包括：

根据所述光场分布，对所述图像中对应所述检测对象的像素点的灰阶值进行调整，以使得调整之后的灰阶值对应的光场均匀分布。