[发明专利]研磨液和研磨物的制造方法

权利要求书

1.一种用于碳化硅的研磨的研磨液，其含有高锰酸离子、醋酸及其可溶性盐，

研磨开始前的pH在25℃下为1.5～4，

研磨液中的醋酸及其可溶性盐的总含量是以醋酸的阴离子的摩尔数计为0.01mol/L～0.1mol/L，

高锰酸离子的量为0.5质量％～5质量％，

在25℃下向将pH调整为3.0～4.0的研磨液100mL中添加浓度为0.1mol/L的氢氧化钠水溶液时的pH从调整后的pH上升0.5所需要的氢氧化钠的水溶液的添加量为2.0mL～10mL，

醋酸的可溶性盐的含量是相对于醋酸1摩尔为0.05摩尔～20摩尔。

2.根据权利要求1所述的研磨液，其不含有磨粒。

3.根据权利要求1或2所述的研磨液，其进一步含有磨粒。

4.根据权利要求3所述的研磨液，其中，磨粒是选自氧化铝、二氧化硅、氧化锰、酸化铈、氧化锆、氧化铁、碳化硅和金刚石中的至少一种。

5.一种研磨物的制造方法，其中，将权利要求1所述的研磨液用于碳化硅的研磨。

6.根据权利要求5所述的制造方法，其是向研磨垫供给所述研磨液，使被研磨物的被研磨面与所述研磨垫接触，通过两者间的相对运动来进行研磨，其中，通过将下述的操作反复进行从而使所述研磨液循环：回收被供给到所述研磨垫而用于研磨的研磨液，将所述回收的研磨液再次供给到研磨垫。