[发明专利]醛和酮的选择性还原

权利要求书

1.一种制备式(IIa)的化合物的方法，

其中，

R是H或CH₃，或

R与碳原子(2)一起形成4至8元脂族环体系，其被取代或未被取代；且

R₁是H；未被取代的芳族环体系或被取代的芳族环体系；未被取代的杂芳族环体系或被取代的杂芳族环体系；未被取代的脂族环体系或被取代的脂族环体系；未被取代的杂脂族环体系或被取代的杂脂族环体系；-CH₃；-CH₂CH₃；C₃–C₁₀烷基，其是直链或支链的，并且是饱和的或部分不饱和的；或C₁₁–C₂₀烷基，其是直链或支链的，并且是饱和的或部分不饱和的；

或R₁与式(IIa)的C-C双键一起形成5至8元脂族环体系，其被取代或未被取代；或5至8元芳族环体系，其被取代或未被取代；

或R₁与式(IIa)的C-C双键一起形成5至8元杂脂族环体系，其被取代或未被取代；或5至8元芳族环体系，其被取代或未被取代；

或R₁与式(IIa)的C-C双键一起形成5至8元芳族环体系，其被取代或未被取代；或5至8元芳族环体系，其被取代或未被取代；

或R₁与式(IIa)的C-C双键一起形成5至8元杂芳族环体系，其被取代或未被取代；或5至8元芳族环体系，其被取代或未被取代；且

R₂是H；或-CH₃；

所述方法通过选择性还原式(I)的化合物进行

其中R、R₁和R₂具有与所述式(IIa)的化合物中所限定的含义相同的含义，

所述方法的特征在于：在至少一种式(III)的过渡金属催化剂的存在下进行所述选择性还原

[M(L)(X)_a(L')_b] (III)，

其中

M是选自Os、Co、Ru和Fe的过渡金属，且

X是卤素阴离子、羧酸根、硼氢化物、BF₄^-或PF₆^-，且

L'是单齿膦配体，且

L是式(IV)的三齿配体

其中

R₃是-CH₃或–CH₂CH₃，且

R₄是H；-CH₃；–CH₂CH₃；-OCH₃或-OCH₂CH₃，且

R₅是H；-CH₃；–CH₂CH₃；-OCH₃或-OCH₂CH₃，且

R₆是H；-CH₃；–CH₂CH₃；-OCH₃或-OCH₂CH₃，且

R₇是H；-CH₃；–CH₂CH₃；-OCH₃或-OCH₂CH₃，且

R₈是H；-CH₃或–CH₂CH₃，且

R₉是-CH₃或-CH₂CH₃，且

或R₄和R₅形成C₄-C₈环体系，其是脂族的或芳族的，且

m是0、1或2，且

n是0、1或2，

前提条件是m+n的总和为1或2，

o是2或3，

a是0、1、2或3，

b是0、1、2或3，

前提条件是a+b的总和为2或3。