[发明专利]用于确定图案化工艺的参数的方法和设备

权利要求书

1.一种配置参数确定过程的方法，该方法包括：

获得结构的数学模型，所述数学模型被配置为预测在用辐射光束照射所述结构时的光学响应，所述结构在标称物理配置下具有几何对称性；

由硬件计算机系统使用所述数学模型来模拟所述结构的所述物理配置中的一定量的扰动，以确定多个像素中的每个像素中的所述光学响应的对应变化，从而获得多个像素灵敏度；以及

基于所述像素灵敏度，确定多个权重，所述多个权重用于与衬底上的所述结构的经测量的像素光学特性值组合，以产生与所述物理配置中的变化相关联的参数的值，每个权重对应于一个像素。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述参数是套刻，并且不同的物理配置是所述结构的至少一部分相对于所述结构的另一部分的偏移。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述光学响应包括光瞳图像形式的光学特性。

4.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述光学响应主要是零阶辐射。

5.根据权利要求1或2所述的方法，其中，确定所述权重包括使用雅可比矩阵。

6.根据权利要求1或2所述的方法，其中，确定所述权重包括使用黑塞矩阵。

7.根据权利要求1或2所述的方法，其中，确定所述权重包括使用摩尔-彭若斯广义逆。

8.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述权重被配置成使得能够使用针对所检测到的辐射的表示中的多个像素的光学特性值的求和来确定所述参数的值，其中针对每个像素的光学特性值被乘以所述多个权重中的与该像素相关联的权重。

9.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述光学特性是强度和/或相位。

10.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述结构是器件结构。

11.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述结构是包括器件结构的衬底裸片内的非器件结构。

12.根据权利要求1或2所述的方法，还包括确定用于获得所述经测量的像素光学特性值的测量设置集合，所述测量设置集合对应于所述多个权重。

13.根据权利要求12所述的方法，其中，所述测量设置集合包括选自以下项中的一项或多项：测量光束的波长、所述测量光束的偏振、所述测量光束的剂量、和/或由检测器传感器得到的对所述结构的特定一次照射的多个光学特性读数。

14.根据权利要求1或2所述的方法，其中，获得所述数学模型包括：在包括所述结构的一个或多个衬底上执行CD测量，并且对照所述CD测量来校准所述数学模型以获得针对所述结构的所述物理配置的扰动的所述结构的标称轮廓。

15.根据权利要求1或2所述的方法，还包括：

测量由多个结构重定向的辐射的光学特性值，所述多个结构具有已知的不同物理配置和相关联的所述参数的预期值；

组合所述权重和所测量的所述光学特性值以确定针对所述已知的不同物理配置中的每种物理配置的所述参数的值；以及

用所述参数的预期值评估所确定的所述参数的值；以及

响应于所述评估，调节所述数学模型的参数和/或调节所述权重中的一个或多个权重。

16.一种用于测量图案化工艺的对象的量测设备，所述量测设备被配置为执行根据权利要求1至15中任一项所述的方法。

17.一种计算机程序产品，包括其上记录有指令的计算机非瞬态可读介质，所述指令在由计算机执行时实现根据权利要求1-15中任一项所述的方法。