[发明专利]橡胶构件、轮胎以及橡胶构件的制造方法

权利要求书

1.一种橡胶构件，其特征在于，

在表面的至少一部分具有微小凹凸构造，所述微小凹凸构造通过来自模具的转印形成并以固定的排列周期排列有微小凹凸部，

设有所述微小凹凸构造的区域通过结构色以不同于其他区域的颜色被视觉确认。

2.根据权利要求1所述的橡胶构件，其特征在于，

所述微小凹凸部的所述排列周期或者凹凸高度基于与作为所述结构色而被视觉确认的颜色对应的可视光的波长来决定。

3.根据权利要求1或2所述的橡胶构件，其特征在于，

所述微小凹凸部的所述排列周期或者凹凸高度为650nm以下。

4.一种轮胎，由权利要求1至3中任一项所述的橡胶构件形成。

5.根据权利要求4所述的轮胎，其特征在于，

所述微小凹凸构造形成于侧壁部，

设有所述微小凹凸构造的区域形成为表示规定的信息的形状。

6.根据权利要求5所述的轮胎，其特征在于，

所述侧壁部含有二烯系橡胶、炭黑、以及二氧化硅，

所述二烯系橡胶含有30～70质量％的天然橡胶以及/或者异戊二烯橡胶，所述炭黑的氮吸附比表面积为20～60m²/g，相对于所述二烯系橡胶100质量份所述炭黑的含量为5～45质量份，相对于所述二烯系橡胶100质量份所述二氧化硅的含量为15～55质量份，相对于所述二烯系橡胶100质量份所述炭黑与所述二氧化硅的合计含量为30～60质量份。

7.一种橡胶构件的制造方法，用于制造权利要求1至3中任一项所述的橡胶构件，其特征在于，包含：

形成以所述固定周期配置有图案构造的掩模的掩模形成工序；

将所述掩模配置于由金属或者半导体材料形成的基片上并对所述基片进行刻蚀的刻蚀工序；以及

在所述基片附接未硫化橡胶，对所述未硫化橡胶实施硫化而将所述微小凹凸构造转印至橡胶表面的转印工序。

8.根据权利要求7所述的橡胶构件的制造方法，其特征在于，

还具备基于与作为所述结构色而被视觉确认的颜色对应的可视光的波长来决定所述微小凹凸部的所述排列周期的排列周期决定工序，

在所述掩模形成工序中，基于所述排列周期决定工序中决定的所述排列周期来决定所述图案构造的周期。

9.根据权利要求7所述的橡胶构件的制造方法，其特征在于，

还具备基于与作为所述结构色而被视觉确认的颜色对应的可视光的波长来决定所述微小凹凸部的所述凹凸高度的凹凸高度决定工序，

在所述刻蚀工序中，通过控制所述基片的刻蚀时间使所述微小凹凸部的所述凹凸高度与所述凹凸高度决定工序中决定的所述凹凸高度一致。