[发明专利]用于水性流体的UV-处理的设备

权利要求书

1.一种用于通过将水性流体暴露于紫外(UV)光而将所述流体消毒的设备(1)，所述设备(1)包括：

·管形UV-灯；

·处理室(21)，其包括圆筒形外壁，所述处理室(21)设置有用于输送水性流体和提供对于由UV-灯发射的UV-光的暴露的通道；

·顶盖(14)和底盖(13)；

·位于处理室(21)的一端的入口室(22)；

·位于处理室(21)的另一端的用于排出水性流体的出口(16)；

其中所述UV-灯位于圆筒形套管装置(12)内部，所述圆筒形套管装置(12)位于所述处理室(21)的圆筒形外壁的内部，所述套管装置(12)和所述外壁形成提供用于输送水性流体的环形通道的处理室(21)；

其中所述入口室(22)包括：

-用于接受水性流体的入口(15)；

-与用于接受水性流体的入口(15)流体连通和通过内环形狭缝开口(32)和外环形狭缝开口(33)与处理室(21)流体连通的环状扩散器通道；

-盖板(31)，其分隔所述环状扩散器通道与所述处理室(21)且限定所述内环形狭缝开口(32)和所述外环形狭缝开口(33)，所述外环形狭缝开口(33)位置邻近所述处理室(21)的外壁，并且所述内环形狭缝开口(32)同心地位于所述外环形狭缝开口(33)内；

所述环状扩散器通道包括环状扩散室(41)和环形喷嘴区段(44)，所述环状扩散室(41)从所述入口(15)接受水性流体的流，所述环状扩散室(41)和所述环形喷嘴区段(44)同轴地定位，所述环状扩散室(41)通过包含多个等距的开口的分隔板(42)与所述环形喷嘴区段(44)分隔，所述水性流体的流通过所述等距的开口沿远离所述处理室(21)的方向进入所述环形喷嘴区段(44)，之后该流在所述环形喷嘴区段(44)中分成水性流体的第一流和水性流体的第二流，所述水性流体的第一流在指向所述内环形狭缝开口(32)和所述处理室(21)之前沿径向向内的方向行进，并且所述水性流体的第二流在指向所述外环形狭缝开口(33)和所述处理室(21)之前沿径向向外的方向行进，并且

其中所述入口室(22)对于进入所述处理室(21)的水性流体提供活塞流。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述内环形狭缝开口(32)具有内半径R₁和宽度W₁；所述外环形狭缝开口(33)具有外半径R₂和宽度W₂；且(W₁+W₂)/(R₂-R₁)≤0.3。

3.根据权利要求2所述的设备，其中0.05≤(W₁+W₂)/(R₂-R₁)≤0.25。

4.根据权利要求2或3所述的设备，其中0.25≤W₁/W₂≤4。

5.根据权利要求1-3中任一项所述的设备，其中所述环状扩散室(41)具有内部体积V_d，所述环形喷嘴区段(44)具有内部体积V_n；且其中V_d/V_n超过1.2。

6.根据权利要求1-3中任一项所述的设备，其中所述入口室(22)具有内部体积V_ic和所述处理室(21)具有体积V_tc；且其中V_tc/V_ic≥15。

7.根据权利要求1-3中任一项所述的设备，其中所述处理室(21)的内部体积为200-5,000ml。

8.根据权利要求1-3中任一项所述的设备，其中所述处理室(21)的长度为10-80cm。