[发明专利]带有倾斜支撑台的标准样品、扫描型电子显微镜的评价方法和SiC基板的评价方法

权利要求书

1.一种带有倾斜支撑台的标准样品，其包括：

扫描型电子显微镜用标准样品，其用于评价扫描型电子显微镜的性能；和

倾斜支撑台，其用于支撑所述扫描型电子显微镜用标准样品，其特征在于：

所述扫描型电子显微镜用标准样品，是由六方晶系的单晶SiC组成且具有偏角，并且在表面形成有台阶平台结构，该台阶平台结构是由半个单位高度的台阶和原子级平坦的平台组成，并且，

各平台的表面是第一叠层取向或第二叠层取向的其中任一者，

所述倾斜支撑台的支撑面，具有与所述扫描型电子显微镜用标准样品的偏角相同的倾斜角，

当将由所述扫描型电子显微镜照射的电子束相对于平台表面的垂线所夹的角定义为入射电子角时，

表面正下方的第一叠层取向的平台的影像和表面正下方的第二叠层取向的平台的影像的明暗差即反差，与所述扫描型电子显微镜用标准样品的偏角无关，而是根据所述入射电子角而变化。

2.根据权利要求1所述的带有倾斜支撑台的标准样品，其中，所述入射电子角在30°至40°之间，所述反差最大。

3.根据权利要求1所述的带有倾斜支撑台的标准样品，其中，在将以平台表面的垂线作为旋转轴而使该扫描型电子显微镜用标准样品旋转的角度定义为样品旋转角时，所述反差根据所述样品旋转角而变化。

4.根据权利要求1所述的带有倾斜支撑台的标准样品，其中，具有同心圆状或六边形的台阶平台结构，并且其高度从中央侧朝向外侧按每半个单位增高。

5.根据权利要求1所述的带有倾斜支撑台的标准样品，其中，平台宽度为0.1μm以上且20μm以下。

6.根据权利要求1所述的带有倾斜支撑台的标准样品，其中，台阶平台结构是通过在具有偏角的4H-SiC或6H-SiC的基板表面的(0001)Si面或(000-1)C面上形成凹部，且在Si蒸气压力下加热该基板而被形成。

7.一种扫描型电子显微镜的评价方法，其特征在于：

在该评价方法中，通过比较一边改变入射电子角一边对根据权利要求1所述的带有倾斜支撑台的标准样品照射电子束而获得的所述反差的变化和预先求得的反差的变化，来评价与扫描型电子显微镜照射的电子束的方向有关的性能。

8.根据权利要求7所述的扫描型电子显微镜的评价方法，其中，通过比较从扫描型电子显微镜对由4H-SiC组成的所述扫描型电子显微镜用标准样品照射电子束而获得的影像、和从扫描型电子显微镜对由6H-SiC组成的所述扫描型电子显微镜用标准样品照射电子束而获得的影像，来评价与扫描型电子显微镜照射的电子束的深度有关的性能。

9.一种SiC基板的评价方法，其特征在于：

在该评价方法中，通过比较从扫描型电子显微镜对根据权利要求1所述的带有倾斜支撑台的标准样品照射电子束而获得的反差和对评价对象的SiC基板照射电子束而获得的反差，来评价SiC基板的质量。

10.根据权利要求9所述的SiC基板的评价方法，其中，通过比较亮度的面内分布来评价SiC基板的质量，这些亮度的面内分布包括：

由表面正下方的第一叠层取向和第二叠层取向的平台获得的亮度的面内分布，该面内分布是以预定的所述入射电子角从扫描型电子显微镜对所述扫描型电子显微镜用标准样品照射电子束而获得的；和

以相同的所述入射电子角对评价对象的SiC基板照射电子束而获得的亮度的面内分布。