[发明专利]纯化装置、纯化方法、制造装置、药液的制造方法、容器及药液容纳体在审
申请号: | 201780025895.6 | 申请日: | 2017-04-25 |
公开(公告)号: | CN109069944A | 公开(公告)日: | 2018-12-21 |
发明(设计)人: | 清水哲也;上村哲也 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | B01D3/00 | 分类号: | B01D3/00;B01D71/26;B01D71/32;B01D71/36;B01D71/56;C07C29/145;C07C31/10;C07C67/08;C07C69/14 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 曹阳 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 纯化装置 金属材料 药液容纳 制造装置 蒸馏塔 内壁 材料形成 电解抛光 氟树脂 溶剂 涂覆 填充 制造 保管 总计 | ||
本发明的课题在于提供一种能够获得降低杂质含量的溶剂及其原料的纯化装置。并且,本发明的课题在于还提供一种纯化方法、制造装置及药液的制造方法。本发明的课题在于提供一种即使在填充药液并保管了规定时间的情况下,药液中的杂质含量也不易增加的容器。并且,本发明的课题在于还提供一种药液容纳体。本发明的纯化装置,对药液进行纯化,且具备蒸馏塔,所述纯化装置中,蒸馏塔的内壁被选自包含氟树脂及经电解抛光的金属材料的组中的至少一种材料涂覆,或者内壁由材料形成,金属材料含有选自包含铬及镍的组中的至少一种,铬及镍的含量的总计相对于金属材料的总质量超过25质量%。
技术领域
本发明涉及一种纯化装置、纯化方法、制造装置、药液的制造方法、容器及药液容纳体。
背景技术
制造半导体器件时,使用含有溶剂的处理液。
近年来,要求更加减少上述溶剂中所含有的金属成分等杂质。并且,正在研究10nm节点以下的半导体器件的制造,且进一步加强上述要求。
作为从上述溶剂降低杂质的方法,例如,专利文献1中,记载有“一种高纯度乙酸丁酯的制造方法,其特征在于,在硫酸催化剂的存在下,由乙酸和正丁醇合成乙酸丁酯,在脱低沸蒸馏之后,进行脱高沸蒸馏,由此制造乙酸丁酯时,将脱高沸物蒸馏塔的塔顶压力控制成50~700mmHg,塔顶温度控制成40~120℃,塔底温度控制成70~130℃。”。
并且,专利文献2中,记载有一种酯类溶剂的制造方法,“其在酸催化剂及形成水和共沸混合物的化合物的存在下,进行醇与羧酸的酯化反应,所述制造方法中,使用使醇与羧酸反应的蒸馏罐、与蒸馏罐连结的蒸馏塔、具有与蒸馏塔塔顶部连结的倾析器的间歇式蒸馏装置”,并且通过规定的方法进行酯化反应。
并且,专利文献3中,记载有“一种酯类溶剂的制造方法,其使用蒸馏塔对在酸催化剂存在下通过使醇和羧酸酯化反应而获得的酯化反应粗液进行蒸馏纯化,所述制造方法中,不对反应粗液进行中和处理便进行蒸馏纯化,蒸馏去除低沸点成分之后,通过设置在蒸馏塔的中间部分的侧切线蒸馏去除酯类溶剂。”。
以往技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2008-308500号公报
专利文献2:日本特开2015-030700号公报
专利文献3:日本特开2009-191051号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
本发明人等对由专利文献1~3中所记载的方法蒸馏的、乙酸丁酯等溶剂进行研究之后,明确了在杂质含量这一点上,最近制造半导体时所使用的处理液存在无法达到所要求的水平的问题。
本发明人等对由专利文献1~3中所记载的方法蒸馏的、乙酸丁酯等溶剂进行研究之后,明确了在公知的容器内保管的情况下,溶剂中的杂质含量随时间增加的问题。
本发明的课题在于提供一种能够获得降低杂质含量的溶剂及其原料(以下,将这些统称为“药液”。)的纯化装置。
并且,本发明的课题在于还提供一种纯化方法、制造装置及药液的制造方法。
因此,本发明的课题在于提供一种即使在填充药液并保管规定时间的情况下,药液中的杂质含量也不易增加的容器。
并且,本发明的课题在于还提供一种药液容纳体。
用于解决技术课题的手段
本发明人等为了实现上述课题进行深入研究的结果,发现能够通过以下结构解决上述课题。
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